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1. (WO2018062180) THRESHOLD MATRIX CREATION METHOD, THRESHOLD MATRIX CREATION DEVICE, AND PROGRAM
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Pub. No.:    WO/2018/062180    International Application No.:    PCT/JP2017/034746
Publication Date: 05.04.2018 International Filing Date: 26.09.2017
IPC:
H04N 1/405 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: KATSUYAMA, Kimito; (JP)
Agent: MATSUURA, Kenzo; (JP)
Priority Data:
2016-193974 30.09.2016 JP
Title (EN) THRESHOLD MATRIX CREATION METHOD, THRESHOLD MATRIX CREATION DEVICE, AND PROGRAM
(FR) PROCÉDÉ DE CRÉATION DE MATRICE SEUIL, DISPOSITIF DE CRÉATION DE MATRICE SEUIL ET PROGRAMME
(JA) 閾値マトリクスの作成方法及び閾値マトリクス作成装置並びにプログラム
Abstract: front page image
(EN)Provided are a threshold matrix creation method, a threshold matrix creation device, and a program which make it possible to freely determine the circumference of a dot pattern on a net percentage basis in accordance with the characteristics of an output system, required quality and the like. The threshold matrix creation method comprises: a step of setting an evaluation function for calculating an image quality evaluation value of a dot pattern corresponding to the arrangement of threshold values in a threshold matrix; a step of setting a dot pattern circumference limit value for each threshold value with respect to at least some of the threshold values; a step of determining, for at least some of the threshold values, pixels that are not more than the circumference limit value as candidates for threshold value arrangement positions; and a step of determining, from among threshold candidate pixels that are the candidates for threshold value arrangement positions, a threshold value arrangement position on the basis of the image quality evaluation value.
(FR)L'invention concerne un procédé de création d'une matrice seuil, un dispositif de création de matrice seuil et un programme, qui permettent de déterminer librement la circonférence d'un motif de points sur une base de pourcentage net en fonction des caractéristiques d'un système de sortie, de la qualité requise et analogues. Le procédé de création d'une matrice seuil comprend : une étape de réglage d'une fonction d'évaluation pour calculer une valeur d'évaluation de qualité d'image d'un motif de points correspondant à l'agencement de valeurs seuils dans une matrice seuil ; une étape consistant à définir une valeur limite de circonférence de motif de points pour chaque valeur seuil par rapport à au moins certaines des valeurs seuils ; une étape consistant à déterminer, pour au moins certaines des valeurs seuils, des pixels qui ne sont pas supérieurs à la valeur limite de circonférence en tant que candidats pour des positions d'agencement de valeurs seuils ; et une étape de détermination, parmi des pixels candidats seuils qui sont les candidats pour des positions d'agencement de valeurs seuils, d'une position d'agencement de valeurs seuils sur la base de la valeur d'évaluation de qualité d'image.
(JA)出力システムの特性や要求品質などに合わせて、網パーセントごとにドットパターンの周囲長を自由に決定することができる閾値マトリクスの作成方法及び閾値マトリクス作成装置並びにプログラムを提供する。閾値マトリクスの作成方法は、閾値マトリクスにおける閾値の配置に対応するドットパターンの画質評価値を算出するための評価関数を設定するステップと、少なくとも一部の閾値に対して閾値ごとにドットパターンの周囲長制限値を設定するステップと、少なくとも一部の閾値ごとに周囲長制限値以下となる画素を閾値の配置位置の候補とするステップと、閾値の配置位置の候補である閾値候補画素の中から、画質評価値に基づき閾値の配置位置を決定するステップと、を含む。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)