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1. (WO2018061512) PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE, AND ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE COMPOSITION
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Pub. No.:    WO/2018/061512    International Application No.:    PCT/JP2017/029688
Publication Date: 05.04.2018 International Filing Date: 18.08.2017
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: YOSHINO Fumihiro; (JP)
Agent: NAKASHIMA Junko; (JP).
YONEKURA Junzo; (JP).
MURAKAMI Yasunori; (JP)
Priority Data:
2016-194307 30.09.2016 JP
Title (EN) PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE, AND ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, ET COMPOSITION SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT
(JA) パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、感活性光線性又は感放射線性組成物
Abstract: front page image
(EN)Provided are: a pattern forming method which is capable of forming a pattern with excellent surface properties when an active light sensitive or radiation sensitive film having a thick film thickness is formed; a method for producing an electronic device; and an active light sensitive or radiation sensitive composition. This pattern forming method comprises the steps (i), (ii) and (iii) described below. (i) a step for forming an active light sensitive or radiation sensitive film having a film thickness that is thicker than 9 μm but not thicker than 20 μm with use of an active light sensitive or radiation sensitive composition containing a solvent (S) that satisfies a specific condition (ii) a step for irradiating the active light sensitive or radiation sensitive film with active light or radiation (iii) a step for developing the active light sensitive or radiation sensitive film, which has been irradiated with active light or radiation, with use of a developer liquid
(FR)L’invention fournit un procédé de formation de motif qui permet de former un motif d’une excellente forme plane lors de la formation d’un film sensible à la lumière active ou au rayonnement épais. L’invention fournit également un procédé de fabrication de dispositif électronique et une composition sensible à la lumière active ou au rayonnement. Le procédé de formation de motif de l’invention inclut les étapes i), ii) et iii) suivantes : i) étape au cours de laquelle le film sensible à la lumière active ou au rayonnement d’épaisseur supérieure à 9μm et inférieure ou égale à 20μm, est formé au moyen de la composition sensible à la lumière active ou au rayonnement qui contient un solvant satisfaisant des conditions prédéfinis ; ii) étape au cours de laquelle une lumière active ou un rayonnement irradie le film sensible à la lumière active ou au rayonnement ; iii) étape au cours de laquelle le film sensible à la lumière active ou au rayonnement irradié par la lumière active ou le rayonnement, est développé à l’aide d’une solution de développement.
(JA)厚い膜厚の感活性光線性又は感放射線性膜を形成する際に、面状に優れたパターンを形成できるパターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び感活性光線性又は感放射線性組成物を提供する。パターン形成方法は、下記工程i)、ii)、及びiii)を含む;i)特定の条件を満たす溶剤(S)を含む感活性光線性又は感放射線性組成物を用いて、膜厚が9μmより厚く20μm以下の感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程;ii)感活性光線性又は感放射性膜に、活性光線又は放射線を照射する工程;iii)活性光線又は放射線が照射された感活性光線性又は感放射線性膜を、現像液を用いて現像する工程。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)