WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2018060126) PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM WITH LIQUID LAYER FOR WAVEFRONT CORRECTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.:    WO/2018/060126    International Application No.:    PCT/EP2017/074197
Publication Date: 05.04.2018 International Filing Date: 25.09.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventors: BAUER, Markus; (DE)
Agent: RAUNECKER, Klaus, Peter; (DE)
Priority Data:
10 2016 218 744.9 28.09.2016 DE
Title (DE) PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT FLUESSIGKEITSSCHICHT ZUR WELLENFRONTKORREKTUR
(EN) PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM WITH LIQUID LAYER FOR WAVEFRONT CORRECTION
(FR) DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION COMPORTANT UNE COUCHE DE LIQUIDE POUR LA CORRECTION DE FRONT D’ONDE
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie und umfasst unter anderem ein Projektionsobjektiv (2) zur Abbildung eines Reticles (3) auf einen Wafer (15) sowie eine Flüssigkeitsschicht (51), welche im Weg der zur Abbildung verwendeten optischen Strahlung (7) angeordnet ist sowie Mitteln (4) zur Erzeugung einer bestimmten Temperaturverteilung in der Flüssigkeitsschicht (51). Dabei sind die genannten Mittel (4) zur Erzeugung einer bestimmten Temperaturverteilung geeignet, elektromagnetische Heizstrahlung in die Flüssigkeitsschicht einzubringen und es sind zusätzlich Mittel (5) zur Erzeugung eines Strömungsprofiles in der Flüssigkeitsschicht vorhanden.
(EN)The invention relates to a projection lithography system (1) for semiconductor lithography and comprises, inter alia, a projection lens (2) for transferring a reticle (3) onto a wafer (15), a liquid layer (51), which is located in the path of the optical radiation (7) used for the transfer, and means (4) for producing a specific temperature distribution in the liquid layer (51). The aforementioned means (4) for producing a specific temperature distribution are suitable for introducing electromagnetic heat radiation into the liquid layer and means (5) are also provided for producing a flow profile in the liquid layer.
(FR)L'invention concerne un dispositif de lithographie par projection (1) pour la lithographie de semi-conducteurs, comprenant, entre autres, un objectif de projection (2) pour la reproduction d'un réticule (3) sur une plaquette (15) ainsi qu'une couche de liquide (51) qui est disposée dans la trajectoire du rayonnement optique (7) utilisé pour la reproduction, ainsi que des moyens (4) destinés à produire une distribution de température déterminée dans la couche de liquide (51). Lesdits moyens (4) destinés à produire une distribution de température déterminée sont conçus pour introduire un rayonnement de chauffage électromagnétique dans la couche de liquide et des moyens (5) sont par ailleurs prévus pour produire un profil d'écoulement dans la couche de liquide.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)