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1. (WO2018058158) SPUTTERING TARGET
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Pub. No.:    WO/2018/058158    International Application No.:    PCT/AT2017/000062
Publication Date: 05.04.2018 International Filing Date: 08.09.2017
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), C23C 14/14 (2006.01), B22F 3/15 (2006.01), C22C 1/04 (2006.01)
Applicants: PLANSEE SE [AT/AT]; Metallwerk-Plansee-Straße 71 6600 Reutte (AT)
Inventors: EIDENBERGER-SCHOBER, Michael; (AT).
WINKLER, Jörg; (AT).
O´SULLIVAN, Michael; (AT)
Priority Data:
GM 229/2016 29.09.2016 AT
Title (DE) SPUTTERING TARGET
(EN) SPUTTERING TARGET
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Sputtering Target das Molybdän sowie zumindest ein Metall aus der Gruppe (Tantal, Niob) enthält, wobei der mittlere Gehalt des Metalls aus der Gruppe (Tantal, Niob) 5 bis 15 at% und der Molybdängehalt ≥ 80 at% betragen. Das Sputtering Target weist zumindest eine Matrix mit einem mittleren Molybdängehalt von größer gleich 92 at% und in der Matrix eingebettete Partikel aus einem Mischkristall enthaltend zumindest ein Metall aus der Gruppe (Tantal, Niob) und Molybdän, mit einem mittleren Molybdängehalt von größer gleich 15 at% auf. Weiter betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Sputtering Targets.
(EN)The invention relates to a sputtering target which contains molybdenum and at least one metal of the group (tantalum, niobium), wherein the average content of the metal of the group (tantalum, niobium) is 5 to 15 at.% and the molybdenum content is ≥ 80 at.%. The sputtering target has at least one matrix with an average molybdenum content which is more than or equal to 92 at.% and particles which are embedded into the matrix and which are made of a mixed crystal containing at least one metal of the group (tantalium, niobium) and molybdenum with an average molybdenum content which is more than or equal to 15 at.%. The invention additionally relates to a method for producing a sputtering target.
(FR)L'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique comprenant du molybdène ainsi qu'au moins un métal du groupe (tantale, niobium), la teneur moyenne en métal du groupe (tantale, niobium), en pourcentage atomique (%at), étant de 5 à 15 % et la teneur en molybdène étant ≥ 80 %at. La cible de pulvérisation cathodique comprend au moins une matrice présentant une teneur moyenne en molybdène supérieure ou égale à 92 %at et dans laquelle sont incorporées des particules constituées d'un cristal mixte contenant au moins un métal du groupe (tantale, niobium) et du molybdène, la teneur moyenne en molybdène étant supérieure ou égale à 15 %at. L’invention concerne en outre un procédé de fabrication d'une cible de pulvérisation cathodique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)