WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2018058070) ESTIMATION OF ARC LOCATION IN THREE DIMENSIONS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.:    WO/2018/058070    International Application No.:    PCT/US2017/053326
Publication Date: 29.03.2018 International Filing Date: 25.09.2017
IPC:
G01R 33/00 (2006.01), C21C 5/52 (2006.01), F27B 3/28 (2006.01), F27D 11/08 (2006.01), H05B 7/148 (2006.01), H05B 7/20 (2006.01)
Applicants: KW ASSOCIATES LLC [US/US]; 33827 SE Eastgate Circle Corvallis, Oregon 97330 (US)
Inventors: CIBULA, Matthew A.; (US).
KING, Paul E.; (US).
WOODSIDE, C. Rigel; (US)
Agent: ALAVI, David S.; (US)
Priority Data:
62/400,018 26.09.2016 US
Title (EN) ESTIMATION OF ARC LOCATION IN THREE DIMENSIONS
(FR) ESTIMATION D'EMPLACEMENT D'ARC EN TROIS DIMENSIONS
Abstract: front page image
(EN)Multiple magnetic field sensors are arranged around a current-containing volume at multiple longitudinal and circumferential positions. Each sensor measures multiple magnetic field components and is characterized by one or more calibration parameters. A longitudinal primary current flows through two end-to-end electrical conductors that are separated by an arc gap, and flows as at least one longitudinal primary electric arc that spans the arc gap and that moves transversely within the arc gap. Estimated transverse position of the primary electric arc is calculated, based on the longitudinal position of the arc gap, and two or more of the measured magnetic field components along with one or more corresponding sensor positions or calibration parameters. In addition, estimated occurrence, position, and magnitude of a transverse secondary current (i.e., a side arc) can be calculated based on those quantities.
(FR)L'invention concerne des capteurs de champ magnétique multiples agencés autour d'un volume contenant du courant selon des positions longitudinales et circonférentielles multiples. Chaque capteur mesure des composants de champ magnétique multiples et est caractérisé par un ou plusieurs paramètres d'étalonnage. Un courant primaire longitudinal circule à travers deux conducteurs électriques bout à bout séparés par un espace d'arc, et circule sous la forme d'au moins un arc électrique primaire longitudinal qui s'étend sur l'espace d'arc et qui se déplace transversalement à l'intérieur de l'espace d'arc. Une position transversale estimée de l'arc électrique primaire est calculée, en fonction de la position longitudinale de l'espace d'arc et d'au moins deux des composants de champ magnétique mesurés conjointement avec une ou plusieurs positions de capteur ou paramètres d'étalonnage correspondants. En outre, l'occurrence, la position et l'amplitude estimées d'un courant secondaire transversal (c'est-à-dire un arc latéral) peuvent être calculées en fonction de ces quantités.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)