WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2018056211) ABLATION LAYER, PHOTOSENSITIVE RESIN STRUCTURE, AND METHOD FOR PRODUCING LETTERPRESS PRINTING PLATE USING SAID PHOTOSENSITIVE RESIN STRUCTURE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.:    WO/2018/056211    International Application No.:    PCT/JP2017/033471
Publication Date: 29.03.2018 International Filing Date: 15.09.2017
IPC:
B41N 1/12 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01), G03F 7/075 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01)
Applicants: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1-105, Kanda Jinbocho, Chiyoda-ku, Tokyo 1018101 (JP)
Inventors: NAKAGAWA, Norikiyo; (JP)
Agent: INABA, Yoshiyuki; (JP).
ONUKI, Toshifumi; (JP).
NAITO, Kazuhiko; (JP)
Priority Data:
2016-185139 23.09.2016 JP
2017-008426 20.01.2017 JP
Title (EN) ABLATION LAYER, PHOTOSENSITIVE RESIN STRUCTURE, AND METHOD FOR PRODUCING LETTERPRESS PRINTING PLATE USING SAID PHOTOSENSITIVE RESIN STRUCTURE
(FR) COUCHE D'ABLATION, STRUCTURE DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE PLAQUE D'IMPRESSION TYPOGRAPHIQUE UTILISANT LADITE STRUCTURE DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) アブレーション層、感光性樹脂構成体、及び当該感光性樹脂構成体を用いた凸版印刷版の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is an ablation layer for a photosensitive resin for a letterpress printing plate, the ablation layer comprising at least an acid-modified polymer and an infrared ray absorber. In the ablation layer, the layer acid value is 2 to 400 mgKOH/g and the neutral salt percentage is 0.9 or less. Layer acid value = (acid value of the acid-modified polymer) × (mass ratio of acid-modified polymer in terms of entire ablation layer) Neutral salt percentage = (number of moles of polymer where acid in the acid-modified polymer is present in state of neutral salt)/(total number of moles of the acid-modified polymer)
(FR)L'invention concerne une couche d'ablation pour une résine photosensible destinée à une plaque d'impression typographique, la couche d'ablation comprenant au moins un polymère modifié par acide et un absorbeur de rayons infrarouges. Dans la couche d'ablation, la valeur d'acide de couche est de 2 à 400 mg de KOH/g et le pourcentage de sel neutre est inférieur ou égal à 0,9. Valeur d'acide de couche = (valeur d'acide du polymère modifié par acide) × (rapport en masse du polymère modifié par acide en termes de couche d'ablation entière) Pourcentage de sel neutre = (nombre de moles du polymère, l'acide dans le polymère modifié par acide étant présent à l'état de sel neutre)/(nombre total de moles du polymère modifié par acide)
(JA)酸変性したポリマー、及び赤外線吸収剤を少なくとも含み、 下記層酸価が、2mgKOH/g以上400mgKOH/g以下であり、 かつ下記中和塩比率が0.9以下である、凸版印刷版用感光性樹脂用のアブレーション層。 層酸価=(前記酸変性したポリマーの酸価)×(アブレーション層全体に対する酸変性したポリマーの質量割合) 中和塩比率=(前記酸変性したポリマーにおける酸が中和塩の状態で存在しているポリマーのモル数)/(前記酸変性したポリマーの総モル数)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)