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1. (WO2018055834) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
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Pub. No.:    WO/2018/055834    International Application No.:    PCT/JP2017/019609
Publication Date: 29.03.2018 International Filing Date: 25.05.2017
IPC:
H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Tenjinkita-machi, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585 (JP)
Inventors: HATANO, Akito; (JP).
HAYASHI, Toyohide; (JP).
SHIMAI, Motoyuki; (JP)
Agent: AI ASSOCIATION OF PATENT AND TRADEMARK ATTORNEYS; Sun Mullion NBF Tower, 21st Floor, 6-12, Minamihommachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410054 (JP)
Priority Data:
2016-186147 23.09.2016 JP
Title (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置
Abstract: front page image
(EN)This substrate processing device comprises a control device that, by controlling a spin motor, causes a driven part to rotate together with a movable chuck about a rotation axis of a substrate, and that, by controlling a guard raising/lowering unit, causes a drive part to move together with a splash guard in the vertical direction. The driven part and the drive part oppose one another in a horizontal or vertical opposing direction in a state separated from one another. Then, the driven part and the drive part come into contact with one another, and the drive part presses the driven part in the opposing direction. Thus, the movable chuck is arranged in an open position. Then, the driven part and the drive part separate from one another. The movable chuck returns toward a close position by the force of a coil spring.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de traitement de substrat comprenant un dispositif de commande qui, en commandant un moteur rotatif, amène une partie entraînée à tourner conjointement avec un mandrin mobile autour d'un axe de rotation d'un substrat, et qui, en commandant une unité d'élévation/abaissement de protection, amène une partie d'entraînement à se déplacer conjointement avec un pare-éclaboussures dans la direction verticale. La partie entraînée et la partie d'entraînement s'opposent l'une à l'autre dans une direction opposée horizontale ou verticale dans un état séparé l'une de l'autre. Ensuite, la partie entraînée et la partie d'entraînement viennent en contact l'une avec l'autre, et la partie d'entraînement presse la partie entraînée dans la direction opposée. Ainsi, le mandrin mobile se trouve dans une position ouverte. Ensuite, la partie entraînée et la partie d'entraînement se séparent l'une de l'autre. Le mandrin mobile revient vers une position fermée par la force d'un ressort hélicoïdal.
(JA)基板処理装置は、スピンモータを制御することにより従動部を可動チャックと共に基板の回転軸線まわりに回転させ、ガード昇降ユニットを制御することにより駆動部をスプラッシュガードと共に鉛直方向に移動させる制御装置を備える。従動部および駆動部は、互いに離れた状態で水平または鉛直な対向方向に対向する。その後、従動部および駆動部が互いに接触し、駆動部が従動部を対向方向に押す。これにより、可動チャックが開位置に配置される。その後、従動部および駆動部が互いに離れる。可動チャックは、コイルバネの力で閉位置の方に戻される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)