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1. (WO2018055215) ATOMIC LAYER DEPOSITION CHAMBER
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Pub. No.:    WO/2018/055215    International Application No.:    PCT/ES2016/070663
Publication Date: 29.03.2018 International Filing Date: 22.09.2016
IPC:
C23C 16/455 (2006.01)
Applicants: CIC NANOGUNE [ES/ES]; Tolosa Hiribidea 76 20018 San Sebastián (ES).
COATING TECHNOLOGIES S.L. [ES/ES]; Tolosa Hiribidea 76 20018 San Sebastián (ES)
Inventors: KNEZ, Mato; (ES).
BELTRÁN, Mikel; (ES).
TALAVERA EGUIZÁBAL, David; (ES).
VILA JUÁREZ, Mercedes; (ES)
Agent: DE ELZABURU MÁRQUEZ, Alberto; (ES)
Priority Data:
Title (EN) ATOMIC LAYER DEPOSITION CHAMBER
(ES) CÁMARA PARA DEPÓSITO DE CAPAS ATÓMICAS
(FR) CHAMBRE DESTINÉE AU DÉPÔT DE COUCHES ATOMIQUES
Abstract: front page image
(EN)An atomic layer deposition chamber (1) comprises a chamber body (2) and a chamber lid (3), and additionally comprises at least one separation plate (4) delimiting different interior volumes (5) in the body (2) of the chamber (1), each one of these interior volumes (5) having an inlet (6) and an outlet (7). The invention also relates to an atomic layer deposition equipment comprising said atomic layer deposition chamber (1).
(ES)Cámara (1) para depósito de capas atómicas, que comprende un cuerpo (2) de la cámara y una tapa (3) de la cámara, y que comprende adicionalmente al menos una placa de separación (4) que delimita diferentes volúmenes interiores (5) en el cuerpo (2) de la cámara (1), presentando cada uno de estos volúmenes interiores (5) una entrada (6) y una salida (7). La invención también se refiere a un equipo para depósito de capas atómicas, que comprende dicha cámara (1) para depósito de capas atómicas.
(FR)La présente invention concerne une chambre (1) destinée au dépôt de couches atomiques, comprenant un corps (2) de chambre et un couvercle (3) de chambre, ainsi qu'au moins une plaque de séparation (4) qui délimite différents volumes intérieurs (5) dans le corps (2) de la chambre (1), chacun de ces volumes intérieurs (5) présentant une entrée (6) et une sortie (7). L'invention concerne également un équipement de dépôt de couches atomiques comprenant ladite chambre (1) destinée au dépôt de couches atomiques.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Spanish (ES)
Filing Language: Spanish (ES)