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1. (WO2018053641) BIOPHOTONIC COMPOSITIONS AND METHODS FOR REDUCING SCARRING
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Pub. No.:    WO/2018/053641    International Application No.:    PCT/CA2017/051118
Publication Date: 29.03.2018 International Filing Date: 22.09.2017
IPC:
A61K 41/00 (2006.01), A61N 5/06 (2006.01), A61P 17/02 (2006.01), C09B 11/28 (2006.01)
Applicants: KLOX TECHNOLOGIES INC. [CA/CA]; 275 boulevard Armand-Frappier Laval, Quebec H7V 4A7 (CA)
Inventors: PIERGALLINI, Remigio; (IT).
LOUPIS, Nikolaos; (GR).
NIKOLIS, Andreas; (CA).
FAUVERGHE, Stéphane; (CA).
HÉBERT, Lise; (CA).
BELLINI, Francesco; (CA)
Agent: AUGER, Andréanne; (CA)
Priority Data:
62/399,017 23.09.2016 US
Title (EN) BIOPHOTONIC COMPOSITIONS AND METHODS FOR REDUCING SCARRING
(FR) COMPOSITIONS ET PROCÉDÉS BIOPHOTONIQUES DESTINÉS À RÉDUIRE LA FORMATION DE CICATRICE
Abstract: front page image
(EN)The present disclosure relates to methods for reducing scarring of wounds. The methods comprising topically applying on the wound a biophotonic composition followed by illumination of the applied biophotonic composition with actinic light, wherein the method comprises the following schedule: (a) a period of from about 1 day to about 4 weeks during which, at least once every week the biophotonic composition is topically applied onto the wound and is illuminated for a period of at least 5 minutes, followed by a rest period of less than about a week; and (b) repeating step (a) over a period of at least 4 weeks.
(FR)La présente invention concerne des procédés de réduction de la formation de cicatrice de plaies. Les procédés comprennent l’application par voie topique sur la plaie d’une composition biophotonique suivie de l’éclairage de la composition biophotonique appliquée avec de la lumière actinique, le procédé comprenant le programme suivant : (a) une période d’environ 1 jour jusqu’à environ 4 semaines durant laquelle, au moins une fois chaque semaine la composition biophotonique est appliquée par voie topique sur la plaie et est éclairée sur une durée d’au moins 5 minutes, suivie d’une période de repos inférieure à environ une semaine ; et (b) une étape de répétition (a) sur une période d’au moins 4 semaines.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)