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1. (WO2018053158) SYSTEM FOR RELIABLE, HIGH THROUGHPUT, COMPLEX ELECTRIC FIELD GENERATION, AND METHOD FOR PRODUCING COATINGS THEREFROM
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Pub. No.:    WO/2018/053158    International Application No.:    PCT/US2017/051606
Publication Date: 22.03.2018 International Filing Date: 14.09.2017
IPC:
C25D 5/18 (2006.01), C25D 21/12 (2006.01)
Applicants: MODUMETAL, INC. [US/US]; 1443 N. Northlake Way Seattle, Washington 98103 (US)
Inventors: COLLINSON, Leslie, Ann; (US).
COX, John, Thomas; (US).
PATRY, Shamus, F.; (US)
Agent: HALLER, Rachel, A.; (US).
OBEIDAT, Baha, A.; (US).
KUMABE, Blake, K.; (US).
SOLTANI, Bobby, B.; (US).
SARGEANT, Brooke; (US).
QUIST, Brooke, W.; (US).
ROTH, Carol, J.; (US).
EIDT, Chandra, E.; (US).
O'BRIEN, Daniel; (US).
CARLSON, David, V.; (US).
STARK, Duncan; (US).
TARLETON, E., Russell; (US).
SUN, Eileen, S.; (US).
HARWOOD, Eric, A.; (US).
ABRAMONTE, Frank; (US).
HAN, Hai; (US).
TALBERT, Hayley, J.; (US).
CARTER, James, J.; (US).
WHITE, James, A. D.; (US).
BARRETT, Jared, M.; (US).
PEPE, Jeffrey, C.; (US).
DANLEY, Jeffrey, E.; (US).
SAKOI, Jeffrey, M.; (US).
BAUNACH, Jeremiah, J.; (US).
KARLEN, John, R.; (US).
MORGAN, John, A.; (US).
WAKELEY, John, J.; (US).
COE, Justin, E.; (US).
HENCKEL, Karen, M.; (US).
HEFTER, Karl, A.; (US).
HERMANNS, Karl, R.; (US).
MORGAN, Kevan, L.; (US).
COSTANZA, Kevin, S.; (US).
LINFORD, Lorraine; (US).
COOPER, Michael, P.; (US).
RUSYN, Paul; (US).
LIN, Qing; (US).
IANNUCCI, Robert; (US).
KOVELMAN, Robert, L.; (US).
WEBB, Samuel, E.; (US).
LEEK, Shoko, I.; (US).
ROSENMAN, Stephen, J.; (US).
ABEDI, Syed; (US).
SATAGAJ, Thomas, J.; (US).
BOLLER, Timothy, L.; (US).
LIGON, Toby, J.; (US).
FERRON, William, O., Jr.; (US)
Priority Data:
62/394,552 14.09.2016 US
Title (EN) SYSTEM FOR RELIABLE, HIGH THROUGHPUT, COMPLEX ELECTRIC FIELD GENERATION, AND METHOD FOR PRODUCING COATINGS THEREFROM
(FR) SYSTÈME DE GÉNÉRATION DE CHAMP ÉLECTRIQUE COMPLEXE, FIABLE ET À HAUT RENDEMENT, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE REVÊTEMENTS L'UTILISANT
Abstract: front page image
(EN)Embodiments of the present disclosure include a system for depositing a layered nanolaminate alloy including a controller for an electrodeposition process that includes a waveform synthesizer circuit configured to generate a complex waveform signal corresponding to a desired electrodeposition waveform to be output from an electrodeposition power supply. The controller also includes a synthesizer control circuit configured to control the waveform synthesizer circuit. Based at least in part on a recipe having information related to the electrodeposition process, the synthesizer control circuit controls the generation of the complex waveform signal by modulating in real-time at least one of a waveform shape, a frequency, an amplitude, an offset, a slew, a wavelength, a phase, a velocity, and a derivative of the complex waveform signal. The controller further includes a controller output circuit configured to transmit the complex waveform signal to an input of the electrodeposition power supply.
(FR)Des modes de réalisation de la présente invention comprennent un système pour déposer un alliage nanostratifié en couches, ledit système comprenant un dispositif de commande pour procédé d'électrodéposition qui comprend un circuit synthétiseur de forme d'onde configuré pour générer un signal de forme d'onde complexe correspondant à une forme d'onde d'électrodéposition souhaitée devant être délivrée en sortie par une alimentation électrique d'électrodéposition. Le dispositif de commande comprend également un circuit de commande de synthétiseur configuré pour commander le circuit synthétiseur de forme d'onde. Sur la base, au moins en partie, d'une recette comportant des informations relatives au processus d'électrodéposition, le circuit de commande de synthétiseur commande la génération du signal de forme d'onde complexe par modulation en temps réel d'au moins un paramètre parmi une forme de forme d'onde, une fréquence, une amplitude, un décalage, une vitesse de balayage, une longueur d'onde, une phase, une vitesse et une dérivée du signal de forme d'onde complexe. Le dispositif de commande comprend en outre un circuit de sortie de dispositif de commande configuré pour transmettre le signal de forme d'onde complexe à une entrée de l'alimentation électrique d'électrodéposition.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)