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1. (WO2018052816) CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SMART RING
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Pub. No.:    WO/2018/052816    International Application No.:    PCT/US2017/050822
Publication Date: 22.03.2018 International Filing Date: 08.09.2017
IPC:
B24B 37/32 (2012.01), B24B 37/005 (2012.01), B24B 49/00 (2006.01), B24B 57/02 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: HUANG, Zubin; (US).
WELLS, Stephen A.; (GB).
GOPALAN, Ramesh; (US).
SHEELAVANT, Gangadhar; (IN).
YAVELBERG, Simon; (US)
Agent: PATTERSON, B., Todd; (US).
TABOADA, Keith; (US)
Priority Data:
201641031439 15.09.2016 IN
Title (EN) CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SMART RING
(FR) ANNEAU INTELLIGENT DE POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE
Abstract: front page image
(EN)Embodiments of the present disclosure generally relate to chemical mechanical polishing (CMP) of substrates. In one embodiment, a carrier head for a CMP apparatus is disclosed herein. The carrier head includes a body, a retaining ring, and a sensor assembly. The retaining ring is coupled to the body. The sensor assembly is positioned at least partially in the body. The sensor assembly includes a transmitter, an antenna, and a vibrational sensor. The transmitter has a first end and a second end. The antenna is coupled to the first end of the transmitter. The vibrational sensor is coupled to the second end. The vibrational sensor is configured to detect vibration during chemical mechanical processes with respect to radial, azimuthal, and angular axes of the carrier head.
(FR)La présente invention concerne, de manière générale et selon des modes de réalisation, le polissage chimico-mécanique (CMP) de substrats. Dans un mode de réalisation, l'invention concerne une tête de support d'un appareil de CMP. La tête de support comprend un corps, un anneau de retenue et un ensemble capteur. L'anneau de retenue est couplé au corps. L'ensemble capteur est positionné au moins en partie dans le corps. L'ensemble capteur comprend un émetteur, une antenne et un capteur de vibration. L'émetteur a une première extrémité et une seconde extrémité. L'antenne est couplée à la première extrémité de l'émetteur. Le capteur de vibration est couplé à la seconde extrémité. Le capteur de vibration est conçu pour détecter une vibration pendant des processus chimico-mécaniques par rapport à un axe radial, azimutal et angulaire de la tête de support.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)