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1. (WO2018052614) EXTREME EDGE UNIFORMITY CONTROL
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Pub. No.: WO/2018/052614 International Application No.: PCT/US2017/046914
Publication Date: 22.03.2018 International Filing Date: 15.08.2017
IPC:
H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.[US/US]; 35 Dory Road Gloucester, Massachusetts 01930, US
Inventors: LIKHANSKII, Alexandre; US
PETTERSON, Maureen; US
HAUTALA, John; US
RENAU, Anthony; US
ROWLAND, Christopher A.; US
BILOIU, Costel; US
Agent: NIELDS, LEMACK & FRAME, LLC; 176 E. Main Street Suite 5 Westboro, Massachusetts 01581, US
FRAME, Robert C.; US
LEMACK, Kevin S.; US
Priority Data:
15/269,02619.09.2016US
Title (EN) EXTREME EDGE UNIFORMITY CONTROL
(FR) COMMANDE D'UNIFORMITÉ DE BORD EXTRÊME
Abstract: front page image
(EN) A workpiece processing apparatus allowing independent control of the voltage applied to the shield ring and the workpiece is disclosed. The workpiece processing apparatus includes a platen. The platen includes a dielectric material on which a workpiece is disposed. A bias electrode is disposed beneath the dielectric material. A shield ring, which is constructed from a metal, ceramic, semiconductor or dielectric material, is arranged around the perimeter of the workpiece. A ring electrode is disposed beneath the shield ring. The ring electrode and the bias electrode may be separately powered. This allows the surface voltage of the shield ring to match that of the workpiece, which causes the plasma sheath to be flat. Additionally, the voltage applied to the shield ring may be made different from that of the workpiece to compensate for mismatches in geometries. This improves uniformity of incident angles along the outer edge of the workpiece.
(FR) La présente invention concerne un appareil de traitement de pièce à usiner permettant une commande indépendante de la tension appliquée à l'anneau de blindage et à la pièce à usiner. L'appareil de traitement de pièce à usiner comprend un plateau. Le plateau comprend un matériau diélectrique sur lequel une pièce à usiner est disposée. Une électrode de polarisation est disposée sous le matériau diélectrique. Un anneau de blindage, qui est construit à partir d'un matériau métallique, céramique, semi-conducteur ou diélectrique, est disposé autour du périmètre de la pièce à usiner. Une électrode annulaire est disposée sous l'anneau de blindage. L'électrode annulaire et l'électrode de polarisation peuvent être alimentées séparément. Ceci permet à la tension de surface de l'anneau de blindage de correspondre à celle de la pièce à usiner, ce qui rend plate la gaine de plasma. De plus, la tension appliquée à l'anneau de blindage peut être rendue différente de celle de la pièce à usiner afin de compenser des asymétries en géométrie. Ceci améliore l'uniformité des angles incidents le long du bord extérieur de la pièce à usiner.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)