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1. (WO2018052298) OPTICAL BEAM HOMOGENIZER BASED ON A LENS ARRAY
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Pub. No.:    WO/2018/052298    International Application No.:    PCT/NL2017/050612
Publication Date: 22.03.2018 International Filing Date: 18.09.2017
IPC:
G02B 27/09 (2006.01)
Applicants: KULICKE & SOFFA LITEQ B.V. [NL/NL]; Esp 314 5633 AE Eindhoven (NL)
Inventors: VERMEER, Adrianus Johannes Petrus Maria; (NL).
LOKTEV, Mikhail Yurievich; (NL).
KORT, Derk Andre; (NL)
Agent: JANSEN, C.M.; V.O. Carnegieplein 5 2517 KJ Den Haag (NL)
Priority Data:
2017493 19.09.2016 NL
Title (EN) OPTICAL BEAM HOMOGENIZER BASED ON A LENS ARRAY
(FR) HOMOGÉNÉISATEUR DE FAISCEAU OPTIQUE BASÉ SUR UN RÉSEAU DE LENTILLES
Abstract: front page image
(EN)A correction mask (10) for an optical beam homogenizer (100) comprising a lens array (11). The correction mask is configured to provide a shaped initial beam profile (Ι0'). A subset of a plurality of optical paths (Pa) between the incoming light beam (B0) and the illumination plane (14) is at least partially blocked by the correction mask (10) to provide a further homogenized beam profile (I2) having a further reduced light intensity variance (ΔΙ2) with respect to an initial homogenized beam profile (I1). The mask comprises a plurality of submasks (10a) arranged according to a mask grid layout (M) matching the lens grid layout (L) of the lens array (11). Each one of the submasks (10a) is designed with a specific submask pattern to shape (S) the respective subarea of the initial beam profile (I0) passing a specific one of the lenslets (11a).
(FR)L'invention concerne un masque de correction (10) pour un homogénéisateur de faisceau optique (100) comprenant un réseau de lentilles (11). Le masque de correction est conçu pour mettre en forme un profil de faisceau initial (Ι0'). Un sous-ensemble d'une pluralité de chemins optiques (Pa) entre le faisceau lumineux entrant (B0) et le plan d'éclairage (14) est au moins partiellement bloqué par le masque de correction (10) pour fournir un profil de faisceau davantage homogénéisé (I2) ayant une variance d'intensité de lumière davantage réduite (ΔΙ2) par rapport à un profil de faisceau homogénéisé initial (I1). Le masque comprend une pluralité de sous-masques (10a) agencés selon une disposition de grille de masque (M) correspondant à la disposition de grille de lentilles (L) du réseau de lentilles (11). Chacun des sous-masques (10a) est conçu avec un motif de sous-masque spécifique pour mettre en forme (S) la sous-zone respective du profil de faisceau initial (I0) passant par une lentille spécifique parmi les microlentilles (11a).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)