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1. (WO2018052130) COMPOSITION FOR FORMING PROTECTIVE FILM
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Pub. No.:    WO/2018/052130    International Application No.:    PCT/JP2017/033524
Publication Date: 22.03.2018 International Filing Date: 15.09.2017
IPC:
H01L 21/306 (2006.01), C08G 59/62 (2006.01), C08G 65/28 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventors: HASHIMOTO, Yuto; (JP).
TOKUNAGA, Hikaru; (JP).
OGATA, Hiroto; (JP).
OHASHI, Tomoya; (JP).
SAKAIDA, Yasushi; (JP).
KISHIOKA, Takahiro; (JP)
Agent: HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Priority Data:
2016-181956 16.09.2016 JP
2017-014819 30.01.2017 JP
Title (EN) COMPOSITION FOR FORMING PROTECTIVE FILM
(FR) COMPOSITION PERMETTANT DE FORMER UN FILM PROTECTEUR
(JA) 保護膜形成組成物
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide a composition for forming a protective film with respect to an aqueous hydrogen peroxide solution. [Solution] A composition for forming a protective film with respect to an aqueous hydrogen peroxide solution, which contains a compound represented by formula (1a) or formula (1b), a compound having a substituent represented by formula (2) and a molecular weight of 300 or more but less than 800 or a compound having a weight average molecular weight of 300 or more but less than 800, and a solvent, and wherein from 0.1% by mass to 60% by mass of the compound represented by formula (1a) or formula (1b) or from 10% by mass to 100% by mass of the compound having a substituent represented by formula (2) is contained relative to the solid contents excluding the solvent. (In the formulae, R1 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenylene group or a direct bond; k represents 0 or 1; m represents an integer of 1 to 3; and n represents an integer of 2 to 4.)
(FR)Le problème décrit par la présente invention est de fournir une composition permettant de former un film protecteur relativement à une solution aqueuse de peroxyde d'hydrogène. La solution selon l'invention porte sur une composition permettant de former un film protecteur relativement à une solution aqueuse de peroxyde d'hydrogène, qui comprend un composé représenté par la formule (1a) ou la formule (1b), un composé possédant un substituant représenté par la formule (2) et une masse moléculaire supérieure ou égale à 300 mais inférieure à 800 ou un composé possédant une masse moléculaire moyenne en poids supérieure ou égale à 300 mais inférieure à 800, et un solvant, et dans laquelle de 0,1 % en masse à 60 % en masse du composé représenté par la formule (1a) ou la formule (1b) ou de 10 % en masse à 100 % en masse du composé possédant un substituant représenté par la formule (2) sont compris par rapport aux contenus solides sans le solvant. (Dans les formules, R1 représente un groupe alkylène possédant de 1 à 4 atomes de carbone, un groupe alcénylène ou une liaison directe ; k représente 0 ou 1 ; m représente un nombre entier de 1 à 3 ; et n représente un nombre entier de 2 à 4.)
(JA)【課題】 過酸化水素水溶液に対する保護膜形成組成物を提供する。 【解決手段】 記式(1a)もしくは式(1b)で表される化合物、又は下記式(2)で表される置換基を有する分子量300以上800未満の化合物もしくは重量平均分子量300以上800未満である化合物、及び溶剤を含み、該溶剤を除く固形分に対し、前記式(1a)又は式(1b)で表される化合物を0.1質量%乃至60質量%含有するか、又は、前記式(2)で表される置換基を有する化合物を10質量%乃至100質量%含有する、過酸化水素水溶液に対する保護膜形成組成物。 【化1】 (式中、Rは炭素原子数1乃至4のアルキレン基もしくはアルケニレン基又は直接結合を表し、kは0又は1を表し、mは1乃至3の整数を表し、nは2乃至4の整数を表す。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)