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1. (WO2018052024) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT AND IMAGE DISPLAY DEVICE
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Pub. No.: WO/2018/052024 International Application No.: PCT/JP2017/033037
Publication Date: 22.03.2018 International Filing Date: 13.09.2017
IPC:
G03F 7/031 (2006.01) ,C08F 2/50 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,C07D 209/88 (2006.01) ,C07D 307/80 (2006.01)
Applicants: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION[JP/JP]; 1-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008251, JP
Inventors: UEMATSU Takuya; JP
SEKIGUCHI Naoto; JP
Agent: EIKOH PATENT FIRM, P.C.; Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
Priority Data:
2016-18193216.09.2016JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT AND IMAGE DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PRODUIT DURCI ET DISPOSITIF D’AFFICHAGE D’IMAGE
(JA) 感光性樹脂組成物、硬化物及び画像表示装置
Abstract: front page image
(EN) The present invention addresses the problem of providing a photosensitive resin composition which has high sensitivity and excellent thin wire adhesion. A photosensitive resin composition according to the present invention contains (a) an alkali-soluble resin, (b) a photopolymerizable monomer, (c) a photopolymerization initiator and (d) a colorant; and the photopolymerization initiator (c) contains a photopolymerization initiator (c1) represented by general formula (I) and a photopolymerization initiator (c2) which has a maximum absorption wavelength of 334 nm or more within a wavelength range of from 320 nm to 400 nm. (In formula (I), R1-R6, k, l, m, n and o are as defined in the description.)
(FR) La présente invention aborde le problème de la réalisation d’une composition de résine photosensible qui présente une sensibilité élevée et une excellente adhérence sur fil mince. Une composition de résine photosensible selon la présente invention contient (a) une résine soluble dans les alcalis, (b) un monomère photopolymérisable, (c) un initiateur de photopolymérisation et (d) un colorant ; et l’initiateur de photopolymérisation (c) contient un initiateur de photopolymérisation (c1) représenté par la formule générale (I) et un initiateur de photopolymérisation (c2) qui a une longueur d’onde d’absorption maximale de 334 nm ou plus dans une plage de longueurs d’onde allant de 320 nm à 400 nm. (Dans la formule (I), R1-R6, k, l, m, n et o sont tels que définis dans la description.)
(JA) 本発明の課題は高感度かつ細線密着性に優れた感光性樹脂組成物を提供することにある。本発明の感光性樹脂組成物は、(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)光重合性モノマー、(c)光重合開始剤及び(d)色材を含有し、(c)光重合開始剤が、一般式(I)で表される光重合開始剤(c1)、及び、波長320nm~400nmの範囲における極大吸収波長が334nm以上である光重合開始剤(c2)を含有する。 【化1】 (式(I)中、R~R、k、l、m、n及びoはそれぞれ、明細書に記載された定義と同様である。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)