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Pub. No.:    WO/2018/051689    International Application No.:    PCT/JP2017/028946
Publication Date: 22.03.2018 International Filing Date: 09.08.2017
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP)
Inventors: SUGITA, Hikaru; (JP).
HOMMA Masato; (JP)
Agent: TAKAOKA, Ryoichi; (JP).
ODA, Nao; (JP)
Priority Data:
2016-181306 16.09.2016 JP
(JA) 露光装置および物品製造方法
Abstract: front page image
(EN)An exposure device that exposes a substrate W to light via an original plate and a projection optical system (1) has, in a space between the mutually opposed projection optical system and substrate W, a rectifying mechanism (3) that supplies a gas so as to cut across the optical axis of the projection optical system. The rectifying mechanism supplies the gas so that the gas, which cuts across the optical axis in the space, has a flow rate distribution in which the flow rate (V2) at a second position farther from the projection optical system than is a first position is greater than the flow rate (V1) at the first position. The rectifying mechanism includes a first rectifying member (302) that branches the flow path of the gas into a first flow path for gas flowing to the first position and a second flow path for gas flowing to the second position, thus forming the flow rate distribution.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'exposition qui expose un substrat W à la lumière par l'intermédiaire d'une plaque initiale et d'un système optique de projection (1), et qui présente, dans un espace entre le système optique de projection mutuellement opposé et le substrat W, un mécanisme de redressement (3) qui fournit un gaz de façon à couper l'axe optique du système optique de projection. Le mécanisme de redressement fournit le gaz de sorte que celui-ci, qui coupe l'axe optique dans l'espace, présente une distribution de débit dans laquelle le débit (V2), au niveau d'une seconde position plus éloignée du système optique de projection qu'une première position, est supérieur au débit (V1) au niveau de la première position. Le mécanisme de redressement comprend un premier élément de redressement (302) qui divise la voie d'écoulement du gaz en une première voie d'écoulement pour le gaz s'écoulant vers la première position et en une seconde voie d'écoulement pour le gaz s'écoulant vers la seconde position, formant ainsi la distribution de débit.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)