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1. (WO2018051689) EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ARTICLE
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Pub. No.:    WO/2018/051689    International Application No.:    PCT/JP2017/028946
Publication Date: 22.03.2018 International Filing Date: 09.08.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP)
Inventors: SUGITA, Hikaru; (JP).
HOMMA Masato; (JP)
Agent: TAKAOKA, Ryoichi; (JP).
ODA, Nao; (JP)
Priority Data:
2016-181306 16.09.2016 JP
Title (EN) EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ARTICLE
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 露光装置および物品製造方法
Abstract: front page image
(EN)An exposure device that exposes a substrate W to light via an original plate and a projection optical system (1) has, in a space between the mutually opposed projection optical system and substrate W, a rectifying mechanism (3) that supplies a gas so as to cut across the optical axis of the projection optical system. The rectifying mechanism supplies the gas so that the gas, which cuts across the optical axis in the space, has a flow rate distribution in which the flow rate (V2) at a second position farther from the projection optical system than is a first position is greater than the flow rate (V1) at the first position. The rectifying mechanism includes a first rectifying member (302) that branches the flow path of the gas into a first flow path for gas flowing to the first position and a second flow path for gas flowing to the second position, thus forming the flow rate distribution.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'exposition qui expose un substrat W à la lumière par l'intermédiaire d'une plaque initiale et d'un système optique de projection (1), et qui présente, dans un espace entre le système optique de projection mutuellement opposé et le substrat W, un mécanisme de redressement (3) qui fournit un gaz de façon à couper l'axe optique du système optique de projection. Le mécanisme de redressement fournit le gaz de sorte que celui-ci, qui coupe l'axe optique dans l'espace, présente une distribution de débit dans laquelle le débit (V2), au niveau d'une seconde position plus éloignée du système optique de projection qu'une première position, est supérieur au débit (V1) au niveau de la première position. Le mécanisme de redressement comprend un premier élément de redressement (302) qui divise la voie d'écoulement du gaz en une première voie d'écoulement pour le gaz s'écoulant vers la première position et en une seconde voie d'écoulement pour le gaz s'écoulant vers la seconde position, formant ainsi la distribution de débit.
(JA)原版および投影光学系(1)を介して基板Wを露光する露光装置は、互いに対向する前記投影光学系と基板Wとの間の空間において、前記投影光学系の光軸を横切るように気体を供給する整流機構(3)を有し、前記整流機構は、前記空間において光軸を横切る気体が、第1位置より前記投影光学系から遠い第2位置での流速(V)が第1位置での流速(V)より大きい流速分布を有するように、気体を供給し、前記整流機構は、気体の流路を、第1位置へ流れる気体の第1流路と、第2位置へ流れる気体の第2流路と、に分岐させて流速分布を形成する第1整流部材(302)を含む。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)