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1. (WO2018050432) OPTIMIZATION OF A LITHOGRAPHY APPARATUS OR PATTERNING PROCESS BASED ON SELECTED ABERRATION
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Pub. No.:    WO/2018/050432    International Application No.:    PCT/EP2017/071686
Publication Date: 22.03.2018 International Filing Date: 30.08.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: HANSEN, Steven, George; (US).
VAN ADRICHEM, Paulus, Jacobus, Maria; (NL).
LYAKHOVA, Kateryna, Stanislavovna; (NL)
Agent: PETERS, John; (NL)
Priority Data:
62/394,085 13.09.2016 US
Title (EN) OPTIMIZATION OF A LITHOGRAPHY APPARATUS OR PATTERNING PROCESS BASED ON SELECTED ABERRATION
(FR) OPTIMISATION D'UN APPAREIL DE LITHOGRAPHIE OU D'UN PROCESSUS DE FORMATION DE MOTIFS SUR LA BASE D'UNE ABERRATION SÉLECTIONNÉE
Abstract: front page image
(EN)A method including obtaining a selected component of optical aberration of or for a lithography apparatus, under a processing condition; computing, by a hardware computer system, an approximate of a cost function, based on the selected component; and producing an adjustment of the lithography apparatus or a patterning process that uses the lithography apparatus, based on the approximate of the cost function.
(FR)L'invention concerne un procédé comprenant les étapes consistant à : obtenir un composant sélectionné d'aberration optique d'un appareil de lithographie ou destiné à un appareil de lithographie, sous condition de traitement ; calculer, à l'aide d'un système informatique matériel, une approximation d'une fonction de coût, sur la base du composant sélectionné ; et produire un réglage de l'appareil de lithographie ou d'un processus de formation de motifs qui utilise l'appareil de lithographie, sur la base de l'approximation de la fonction de coût.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)