WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2018047324) BISPHENOL BASED RESIN, ELECTRODE, LEAD ACID BATTERY, AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.:    WO/2018/047324    International Application No.:    PCT/JP2016/076763
Publication Date: 15.03.2018 International Filing Date: 12.09.2016
IPC:
C08G 14/073 (2006.01), H01M 4/14 (2006.01), H01M 4/20 (2006.01), H01M 4/62 (2006.01)
Applicants: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606 (JP)
Inventors: YAMASHITA Takeshi; (JP).
KOGURE Kouji; (JP).
HARA Kousuke; (JP)
Agent: HASEGAWA Yoshiki; (JP).
SHIMIZU Yoshinori; (JP).
HIRANO Hiroyuki; (JP)
Priority Data:
Title (EN) BISPHENOL BASED RESIN, ELECTRODE, LEAD ACID BATTERY, AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) RÉSINE À BASE DE BISPHÉNOL, ÉLECTRODE, ACCUMULATEUR AU PLOMB, ET PROCÉDÉS DE FABRICATION ASSOCIÉS
(JA) ビスフェノール系樹脂、電極、鉛蓄電池及びこれらの製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a bisphenol based resin that has structural units derived from a reaction, under the presence of a basic compound, between (a) a bisphenol based compound, (b) at least one selected from the group consisting of an aminobenzenesulfonic acid and an aminobenzenesulfonic acid derivative, and (c) at least one selected from the group consisting of a formaldehyde and a formaldehyde derivative, wherein the total amount of a bisphenol S and a bisphenol S derivative in the component (a) is 0.10 to 0.30 mol with respect to 1.00 mol of the component (a), and the content of the basic compound is 1.15 mol or more with respect to 1.00 mol of the component (b).
(FR)L’invention concerne une résine à base de bisphénol qui possède une unité structurale dérivée d’une réaction entre (a) un composé à base de bisphénol, (b) au moins un élément choisi dans un groupe constitué d’un acide aminobenzènesulfonique et d’un dérivé de celui-ci, et (c) au moins un élément choisi dans un groupe constitué d’un formaldéhyde et d’un dérivé de celui-ci, en présence d’un composé basique. La quantité totale de bisphénol S et de dérivé de bisphénol S dans le composant (a), est comprise entre 0,10 et 0,30 mole pour 1,00 mole du composant (a). La quantité dans laquelle est mélangé le composé basique est supérieure ou égale à 1,15 mole pour 1,00 mole du composant (b).
(JA)塩基性化合物の存在下における、(a)ビスフェノール系化合物と、(b)アミノベンゼンスルホン酸及びアミノベンゼンスルホン酸誘導体からなる群より選ばれる少なくとも一種と、(c)ホルムアルデヒド及びホルムアルデヒド誘導体からなる群より選ばれる少なくとも一種と、の反応に由来する構造単位を有し、(a)成分におけるビスフェノールS及びビスフェノールS誘導体の合計量が、(a)成分1.00モルに対して0.10~0.30モルであり、塩基性化合物の配合量が、(b)成分1.00モルに対して1.15モル以上である、ビスフェノール系樹脂。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)