JP2016076103 LASER DEVICE AND LASER ANNEAL DEVICE

1. (WO2018047220) LASER DEVICE AND LASER ANNEAL DEVICE

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Pub. No.:		WO/2018/047220		International Application No.:		PCT/JP2016/076103
Publication Date:		15.03.2018		International Filing Date:		06.09.2016

IPC:

H01L 21/268 (2006.01)

Applicants:

GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558 (JP)

Inventors:

TANAKA, Satoshi; (JP).
WAKABAYASHI, Osamu; (JP)

Agent:

MATSUURA, Kenzo; Matsuura & Associates, P.O. Box 176, Shinjuku Sumitomo Bldg. 23F, 6-1, Nishi-shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630223 (JP)

Priority Data:

Title

(EN) LASER DEVICE AND LASER ANNEAL DEVICE
(FR) DISPOSITIF LASER ET DISPOSITIF DE RECUIT LASER
(JA) レーザ装置およびレーザアニール装置

Abstract:

(EN)A laser device for laser annealing is provided with: A) a laser oscillator that outputs pulsed laser light; and B) an OPS device which is disposed on the optical path of the pulsed laser light output from the laser oscillator, and which includes at least one OPS for stretching the pulse time width of the incident pulsed laser light, wherein, among the OPSs, a first OPS of which a delay optical path length L that is the length of a delay optical path becomes the smallest has a delay optical path length L(1) which is in the range of the following expression (A). ΔT75% × c ≤ L(1) ≤ ΔT25% × c Expression (A) where ΔT_a% is the time full-width of the position at which the optical intensity exhibits the value of a% with respect to a peak value in the input waveform of pulsed laser light that is output from the laser oscillator and that becomes incident on the OPS device, and c is the speed of light.
(FR)Un dispositif laser pour recuit laser est pourvu : A) d'un oscillateur laser qui émet une lumière laser pulsée; et B) d'un dispositif OPS qui est disposé sur le trajet optique de la lumière laser pulsée émise par l'oscillateur laser, et qui comprend au moins un OPS pour étirer la largeur de temps d'impulsion de la lumière laser pulsée incidente, un premier OPS, parmi les OPS, dont la longueur de trajet optique de retard L qui est la longueur d'un trajet optique de retard devient la plus petite, présente une longueur de trajet optique de retard L(1) qui est dans la plage de l'expression (A) suivante. ΔT75% × c ≤ L(1) ≤ ΔT25% × c Expression (A) où ΔT_a% est la pleine largeur de temps de la position à laquelle l'intensité optique présente la valeur de a% par rapport à une valeur de pic dans la forme d'onde d'entrée de la lumière laser pulsée qui est émise par l'oscillateur laser et qui devient incidente sur le dispositif OPS, et c est la vitesse de la lumière.
(JA)レーザアニール用のレーザ装置は、以下を備える：Ａ．パルスレーザ光を出力するレーザ発振器；及び、Ｂ．レーザ発振器から出力されたパルスレーザ光の光路上に配置され、入射したパルスレーザ光のパルス時間幅をストレッチする少なくとも１つのＯＰＳを含むＯＰＳ装置であって、ＯＰＳのうち、遅延光路の長さである遅延光路長Ｌが最小となる第１のＯＰＳの遅延光路長Ｌ（１）が、以下の式（Ａ）の範囲にあるＯＰＳ装置。　ΔＴ７５％×ｃ≦Ｌ（１）≦ΔＴ２５％×ｃ・・・・・式（Ａ）　ここで、ΔＴ_a%は、前記レーザ発振器から出力され、前記ＯＰＳ装置に入射するパルスレーザ光の入力波形において、光強度がピーク値に対してａ％の値を示す位置の時間全幅であり、ｃは光速である。

Designated States:

AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).

Publication Language:	Japanese (JA)
Filing Language:	Japanese (JA)

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