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1. (WO2018045557) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND LITHOGRAPHIC SYSTEM
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Pub. No.: WO/2018/045557 International Application No.: PCT/CN2016/098563
Publication Date: 15.03.2018 International Filing Date: 09.09.2016
IPC:
G03F 7/213 (2006.01)
Applicants: HUAWEI TECHNOLOGIES CO., LTD.[CN/CN]; Huawei Administration Building Bantian, Longgang Shenzhen, Guangdong 518129, CN
Inventors: LONGNOS, Florian; CN
Agent: LONGSUN LEAD IP LTD.; Rm.101, Building 3 No. 68 Beiqing Road, Haidian District Beijing 100094, CN
Priority Data:
Title (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND LITHOGRAPHIC SYSTEM
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE
(ZH) 一种光刻设备和光刻系统
Abstract: front page image
(EN) A lithographic apparatus (100) and a lithographic system, the lithographic apparatus (100) comprising: an optical switch (110) and N photonic devices (120). The optical switch (110) comprises N sub-optical switches (111, 112), and the N sub-optical switches (111, 112) correspond one by one to N photonic devices (120, 130), N being a positive integer greater than or equal to 2; states of each of the sub-optical switches (111, 112) comprise an on state and an off state, sub-optical switches (111, 112) in the on state are used for transmitting a light beam to a corresponding photonic device (120, 130), and sub-optical switches (111, 112) in the off state cannot transmit a light beam to a corresponding photonic device (120, 30); and each photonic device (120, 130) comprises beam splitting devices (121, 131) and focusing lenses (122, 132). The lithographic apparatus (100) may prepare a required pattern without changing a relative position of the lithographic apparatus (100) to a substrate, thus avoiding steps of translation and alignment, and thereby improving processing efficiency and accuracy of an interference pattern formed on the substrate.
(FR) La présente invention concerne un appareil lithographique (100) et un système lithographique, l'appareil lithographique (100) comprenant : un commutateur optique (110) et N dispositifs photoniques (120). Le commutateur optique (110) comprend des N commutateurs sous-optique (111, 112), et les N commutateurs sous-optiques (111, 112) correspondent un par un à N dispositifs photoniques (120, 130), N étant un nombre entier positif supérieur ou égal à 2 ; les états de chacun des commutateurs sous-optiques (111, 112) comprennent un état allumé et un état éteint, des commutateurs sous-optiques (111, 112) dans l'état allumé sont utilisés pour transmettre un faisceau de lumière à un dispositif photonique correspondant (120, 130), et des commutateurs sous-optiques (111, 112) dans l'état éteint ne peuvent pas transmettre un faisceau de lumière à un dispositif photonique correspondant (120, 30) ; et chaque dispositif photonique (120, 130) comprend des dispositifs de division de faisceau (121, 131) et des lentilles de focalisation (122, 132). L'appareil lithographique (100) peut préparer un modèle requis sans changer une position relative de l'appareil lithographique (100) à un substrat, ce qui permet d'éviter les étapes de translation et d'alignement, et d'améliorer ainsi l'efficacité de traitement et la précision d'un modèle d'interférence formé sur le substrat.
(ZH) 一种光刻设备(100)和光刻系统,该光刻设备(100)包括:光开关(110)和N个光子器件(120),光开关(110)包括N个子光开关(111,112),N个子光开关(111,112)与N个光子器件(120,130)一一对应,N为正整数且N≥2;每个子光开关(111,112)的状态包括开启状态和关闭状态,处于开启状态的子光开关(111,112)用于将光束传输至对应的光子器件(120,130),处于关闭状态的子光开关(111,112)不能将光束传输至对应的光子器件(120,130);每个光子器件(120,130)包括分束装置(121,131)和聚焦透镜(122,132)。该光刻设备(100)无需改变光刻设备(100)与基材的相对位置即可制备出需要的图案,避免了平移步骤和对准步骤,从而提高了处理效率以及在基材上形成的干涉图案的精确度。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)