WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2018043642) METAL MASK MATERIAL AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.:    WO/2018/043642    International Application No.:    PCT/JP2017/031349
Publication Date: 08.03.2018 International Filing Date: 31.08.2017
IPC:
B21B 1/22 (2006.01), B21B 3/02 (2006.01), C21D 9/46 (2006.01), C22C 19/03 (2006.01), C22C 38/00 (2006.01), C22C 38/08 (2006.01), C22F 1/00 (2006.01)
Applicants: HITACHI METALS,LTD. [JP/JP]; 2-70, Konan 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1088224 (JP)
Inventors: OMORI, Akihiro; (JP).
OKAMOTO, Takuya; (JP).
IIDA, Yasuyuki; (JP)
Priority Data:
2016-169881 31.08.2016 JP
Title (EN) METAL MASK MATERIAL AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) MATÉRIAU POUR MASQUE MÉTALLIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
(JA) メタルマスク用素材およびその製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided are: a metal mask material the shape change of which after etching is suppressed and which is preferable in order to achieve good resist adhesiveness and good etching workability; and a production method for the metal mask material. The metal mask material has a surface roughness in the rolling direction and a surface roughness in a direction perpendicular to the rolling direction, which satisfy 0.05 μm≤Ra≤0.25 μm and Rz≤1.5 μm. The metal mask material has a skewness Rsk of 0 or greater in the direction perpendicular to the rolling direction. When a sample having a length of 150 mm and a width of 30 mm is cut out of the metal mask material and the thickness of the sample is reduced by 60% by etching from one side of the sample, the amount of warpage of the sample is 15 mm or less. The metal mask material has a thickness of 0.10-0.5 mm.
(FR)L’invention fournit un matériau pour masque métallique qui tout en inhibant une déformation après gravure, est adapté pour obtenir une adhérence de réserve et une usinabilité de gravure satisfaisantes. L’invention fournit également un procédé de fabrication de ce matériau pour masque métallique. Ledit matériau pour masque métallique présente une rugosité superficielle dans une direction de laminage et une rugosité superficielle dans une direction perpendiculaire à la direction de laminage respectivement telles que 0,05μm≦Ra≦0,25μm et Rz≦1,5μm. L’asymétrie (Rsk) dans la direction perpendiculaire à la direction de laminage dudit matériau pour masque métallique, est supérieure ou égale à 0. Un échantillon de 150mm de longueur et de 30mm de largeur est découpé dans ledit matériau pour masque métallique, et ledit échantillon est gravé par un côté. Lorsque 60% de l’épaisseur dudit échantillon est retirée, la quantité de courbure est inférieure ou égale à 15mm, et son épaisseur est supérieure ou égale à 0,10mm et inférieure ou égale à 0,5mm.
(JA)エッチング後の形状変化を抑制するとともに、良好なレジスト密着性とエッチング加工性を得るうえで好適なメタルマスク用素材とその製造方法を提供する。 圧延方向における表面粗さと圧延方向と直交する方向における表面粗さとがともに、0.05μm≦Ra≦0.25μm、Rz≦1.5μm以下であり、前記メタルマスク用素材は、圧延方向と直交する方向におけるスキューネスRskが0以上であり、前記メタルマスク用素材から長さ150mm、幅30mmの試料を切り出し、前記試料を片側からエッチングし、前記試料の板厚の60%を除去したときの反り量が15mm以下であり、板厚が0.10mm以上0.5mm以下であるメタルマスク用素材。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)