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Pub. No.:    WO/2018/043045    International Application No.:    PCT/JP2017/028575
Publication Date: 08.03.2018 International Filing Date: 07.08.2017
Chapter 2 Demand Filed:    29.03.2018    
F16C 29/06 (2006.01)
Applicants: NIPPON BEARING CO., LTD. [JP/JP]; 2833, Oaza-Chiya-Ko, Ojiya-shi, Niigata 9478503 (JP)
Inventors: YAMAZAKI Toru; (JP).
KIKUCHI Tomohiko; (JP).
UEKI Yusuke; (JP).
KAWAMURA Masaki; (JP).
Agent: YOSHII Takeshi; (JP).
YOSHII Masaei; (JP)
Priority Data:
2016-171692 02.09.2016 JP
(JA) 直動装置
Abstract: front page image
(EN)Provided is a linear motion device having higher rigidity, higher load resistance, and excellent guiding precision. A linear motion device in which a linearly moving element 2 that moves linearly in relation to a rail body 1 is provided, a load path 4 through which rolling elements 3 move is provided between the rail body 1 and the linearly moving element 2, and a rolling element endless circulation path is formed by which the load path 4 communicates with a no-load path 6 via a return path 5, wherein: the rolling elements 3 are cylindrical objects of which the length is at least three times the diameter, the rolling elements 3 being configured so as to circulate through the rolling element endless circulation path in a state of being rotatably held by a rolling element holder 10, which is configured from spacers 8 provided between adjacent rolling elements 3 and a band-shaped linking element 9 that links the ends of the spacers 8; and the no-load path 6 is formed by installing a no-load path constituent member 12 in a linear hole 11 formed through the linearly moving element 2, the no-load path constituent member 12 being configured such that the outer sides of the end surfaces of the rolling elements 3 are opened and the linking element 9 of the rolling element holder 10 is exposed.
(FR)L'invention concerne un dispositif à déplacement linéaire présentant une très haute rigidité, une très grande résistance de charge et une excellente précision de guidage. L'invention concerne un dispositif à déplacement linéaire dans lequel un élément à déplacement linéaire (2) se déplace linéairement par rapport à un corps de rail (1), un chemin sous charge (4) sur lequel se déplacent des éléments de roulement (3) est ménagé entre le corps de rail (1) et l'élément à déplacement linéaire (2), et un chemin de circulation sans fin d'élément de roulement est formé au moyen duquel le chemin sous charge (4) communique avec un chemin sans charge (6) par l'intermédiaire d'un chemin de retour (5), les éléments de roulement (3) étant des objets cylindriques dont la longueur représente au moins trois fois le diamètre, les éléments de roulement (3) étant conçus de façon à circuler sur le chemin de circulation sans fin d'élément de roulement dans un état où ils sont maintenus de manière rotative par un support (10) d'élément de roulement, qui est conçu à partir d'éléments d'espacement (8) disposés entre des éléments de roulement adjacents (3) et un élément de liaison en forme de bande (9) qui relie les extrémités des espaceurs (8); et le chemin sans charge (6) est formé par l'installation d'un élément constitutif (12) dans un trou linéaire (11) formé par l'intermédiaire de l'élément à déplacement linéaire (2), l'élément constitutif (12) de chemin sans charge étant conçu de sorte que les côtés extérieurs des surfaces d'extrémité des éléments de roulement (3) sont ouverts et que l'élément de liaison (9) du support (10) d'élément de roulement est exposé.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)