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1. (WO2018042600) IMAGE ANALYSIS DEVICE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
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Pub. No.: WO/2018/042600 International Application No.: PCT/JP2016/075706
Publication Date: 08.03.2018 International Filing Date: 01.09.2016
IPC:
G01B 15/04 (2006.01)
[IPC code unknown for G01B 15/04]
Applicants:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
Inventors:
山口 敦子 YAMAGUCHI Atsuko; JP
蓮見 和久 HASUMI Kazuhisa; JP
生井 仁 NAMAI Hitoshi; JP
Agent:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
Priority Data:
Title (EN) IMAGE ANALYSIS DEVICE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ANALYSE D'IMAGE ET DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 画像解析装置および荷電粒子線装置
Abstract:
(EN) The purpose of the present invention is to provide an image analysis device enabling easy extraction of an edge of an upper layer pattern, which is formed across a lower pattern, without being affected by the lower pattern. The image analysis device comprises: an arithmetic unit 721 that calculates an analysis range including a region at which lower layer and upper layer patterns intersect and a region at which the lower layer pattern is not formed; an arithmetic unit 722 that averages a plurality of signal profiles; an arithmetic unit 723 that calculates a maximum value and a minimum value of signal strength; an arithmetic unit 724 that calculates a threshold level difference using the maximum value and the minimum value; and an arithmetic unit 725 that calculates the edge of the upper pattern on the signal profile.
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'analyse d'image permettant d'extraire facilement un bord de motif de couche supérieure, qui est formé sur l'ensemble d'un motif inférieur sans être influencé par le motif inférieur. Le dispositif d'analyse d'image comprend : une unité arithmétique (721), qui calcule une plage d'analyse comprenant une région au niveau de laquelle les motifs de couche inférieure et de couche supérieure se croisent, et une région au niveau de laquelle le motif de couche inférieure n'est pas formé ; une unité arithmétique (722), qui calcule la moyenne d'une pluralité de profils de signal ; une unité arithmétique (723), qui calcule une valeur maximale et une valeur minimale d'intensité de signal ; une unité arithmétique (724), qui calcule une différence de niveau de seuil à l'aide de la valeur maximale et de la valeur minimale ; et une unité arithmétique (725), qui calcule le bord du motif supérieur sur le profil de signal.
(JA) 下層パターンに交差して形成された上層パターンのエッジを下層パターンの影響を受けないように容易に抽出可能な画像解析装置を提供するために、下層及び上層パターンが交差する領域と、下層パターンが形成されていない領域とを含む解析範囲を算出する演算部721と、複数の信号プロファイルを平均化する演算部722と、信号強度の最大値と最小値とを算出する演算部723と、最大値および最小値を用いて閾値レベル差を算出する演算部724と、信号プロファイル上で上層パターンのエッジを算出する演算部725と、を有する画像解析装置とする。
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)