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1. (WO2018041550) AUTOMATIC SELECTION OF METROLOGY TARGET MEASUREMENT RECIPES
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Pub. No.: WO/2018/041550 International Application No.: PCT/EP2017/069969
Publication Date: 08.03.2018 International Filing Date: 07.08.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
Applicants:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors:
WANG, Daimian; US
ZHANG, Shengrui; NL
FAN, Chi-Hsiang; US
Agent:
PETERS, John; NL
Priority Data:
62/382,77101.09.2016US
Title (EN) AUTOMATIC SELECTION OF METROLOGY TARGET MEASUREMENT RECIPES
(FR) SÉLECTION AUTOMATIQUE DE RECETTES DE MESURE DE CIBLE DE MÉTROLOGIE
Abstract:
(EN) A method including performing a first simulation for each of a plurality of different metrology target measurement recipes using a first model, selecting a first group of metrology target measurement recipes from the plurality of metrology target measurement recipes, the first group of metrology target measurement recipes satisfying a first rule, performing a second simulation for each of the metrology target measurement recipes from the first group using a second model, and selecting a second group of metrology target measurement recipes from the first group, the second group of metrology target measurement recipes satisfying a second rule, the first model being less accurate or faster than the second model and/or the first rule being less restrictive than the second rule.
(FR) Selon l'invention, un procédé consiste à réaliser une première simulation pour chaque recette d'une pluralité de recettes de mesure de cible de métrologie différentes grâce à un premier modèle, sélectionner un premier groupe de recettes de mesure de cible de métrologie parmi la pluralité de recettes de mesure de cible de métrologie, le premier groupe de recettes de mesure de cible de métrologie respectant une première règle, réaliser une deuxième simulation pour chacune des recettes de mesure de cible de métrologie provenant du premier groupe grâce à un deuxième modèle, et sélectionner un deuxième groupe de recettes de mesure de cible de métrologie dans le premier groupe, le deuxième groupe de recettes de mesure de cible de métrologie respectant une deuxième règle, le premier modèle étant moins précis ou plus rapide que le deuxième modèle et/ou la première règle étant moins restrictive que la deuxième règle.
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)