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1. (WO2018041440) POSITION SENSOR, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICES
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Pub. No.: WO/2018/041440 International Application No.: PCT/EP2017/066321
Publication Date: 08.03.2018 International Filing Date: 30.06.2017
IPC:
G03F 9/00 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
9
Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors: HUISMAN, Simon, Reinald; NL
MATHIJSSEN, Simon, Gijsbert, Josephus; NL
GOORDEN, Sebastianus, Adrianus; NL
AKBULUT, Duygu; NL
POLO, Alessandro; NL
Agent: KETTING, Alfred; NL
Priority Data:
16186333.730.08.2016EP
Title (EN) POSITION SENSOR, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICES
(FR) CAPTEUR DE POSITION, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
Abstract:
(EN) An alignment sensor in a lithographic apparatus comprises an optical system (500; 600) configured to deliver, collect and process radiation selectively in a first waveband (e.g. 500-900 nm) and/or in a second waveband (e.g. 1500-2500 nm). The radiation of the first and second wavebands share a common optical path (506-508; 606) in at least some portion of the optical system, while the radiation of the first waveband is processed by a first processing sub-system (552a) and the radiation of the second waveband (552b) is processed by a second processing sub-system. The processing subsystems in one example comprise self-referencing interferometers (556a/556b; 656a/656b). The radiation of the second waveband allow marks to be measure through an opaque layer (308) such as carbon hard mask. Optical coatings and other components of each processing sub-system can be tailored to the respective waveband, without completely duplicating the optical system.
(FR) Un capteur d'alignement d'un appareil lithographique comprend un système optique (500; 600) conçu pour produire en sortie, collecter et traiter un rayonnement sélectivement dans une première gamme d'ondes (par exemple de 500 à 900 nm) et/ou dans une seconde gamme d'ondes (par exemple de 1500 à 2500 nm). Les rayonnements des première et seconde gammes d'ondes partagent un trajet optique commun (506-508; 606) dans au moins une partie du système optique, tandis que le rayonnement de la première gamme d'ondes est traité par un premier sous-système de traitement (552a) et que le rayonnement de la seconde gamme d'ondes (552b) est traité par un second sous-système de traitement. Les sous-systèmes de traitement comprennent, dans un exemple, des interféromètres auto-référencés (556a/556b; 656a/656b). Le rayonnement de la seconde gamme d'ondes permet de mesurer des marques dans une couche opaque (308) telle qu'un masque dur en carbone. Des revêtements optiques et d'autres composants de chaque sous-système de traitement peuvent être adaptés à la gamme d'ondes respective, sans dupliquer complètement le système optique.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)