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1. (WO2018037842) CERAMIC SUBSTRATE, AND MODULE WITH BUILT-IN ELECTRONIC COMPONENT
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Pub. No.:    WO/2018/037842    International Application No.:    PCT/JP2017/027723
Publication Date: 01.03.2018 International Filing Date: 31.07.2017
IPC:
H05K 3/38 (2006.01), C04B 41/90 (2006.01), H01L 23/13 (2006.01), H01L 25/00 (2006.01), H05K 1/03 (2006.01), H05K 3/46 (2006.01)
Applicants: MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP)
Inventors: ASAI, Ryota; (JP).
MATSUSHITA, Yosuke; (JP)
Agent: YASUTOMI & ASSOCIATES; 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003 (JP)
Priority Data:
2016-161717 22.08.2016 JP
Title (EN) CERAMIC SUBSTRATE, AND MODULE WITH BUILT-IN ELECTRONIC COMPONENT
(FR) SUBSTRAT CÉRAMIQUE ET MODULE COMPORTANT UN COMPOSANT ÉLECTRONIQUE INTÉGRÉ
(JA) セラミック基板及び電子部品内蔵モジュール
Abstract: front page image
(EN)This ceramic substrate is provided with: a ceramic element having a ceramic layer on the surface; and a surface electrode that is provided on one main surface of the ceramic element. The ceramic substrate is characterized in that: an oxide layer formed of an insulating oxide is formed between the surface electrode and the ceramic layer, said oxide having a melting point that is higher than the firing temperature of the ceramic layer; the oxide layer is also provided on a ceramic layer portion where the surface electrode is not provided; and the surface of the oxide layer on the ceramic layer portion where the surface electrode is not provided is a rough surface.
(FR)L'invention concerne un substrat céramique pourvu : d'un élément en céramique possédant une couche de céramique sur la surface ; et d'une électrode de surface située sur une surface principale de l'élément en céramique. Le substrat céramique est caractérisé en ce que : une couche d'oxyde constituée d'un oxyde isolant est formée entre l'électrode de surface et la couche de céramique, ledit oxyde ayant un point de fusion qui est supérieur à la température de cuisson de la couche de céramique ; la couche d'oxyde est également située sur une partie de la couche de céramique où l'électrode de surface n'est pas située ; la surface de la couche d'oxyde sur la partie de la couche de céramique où l'électrode de surface n'est pas située est une surface rugueuse.
(JA)本発明のセラミック基板は、表面にセラミック層を有するセラミック素体と、上記セラミック素体の一方主面に設けられた表面電極とを備えるセラミック基板であって、上記表面電極と上記セラミック層との間に、上記セラミック層の焼成温度よりも高い融点を有する絶縁性の酸化物からなる酸化物層が設けられているとともに、上記表面電極が設けられていない上記セラミック層上にも上記酸化物層が設けられており、上記表面電極が設けられていない上記セラミック層上の上記酸化物層の表面が粗面であることを特徴とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)