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1. (WO2018036387) ALUMINUM-CONTAINING FILM LAYER PATTERN, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND POST-PROCESSING METHOD THEREOF
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Pub. No.: WO/2018/036387 International Application No.: PCT/CN2017/096832
Publication Date: 01.03.2018 International Filing Date: 10.08.2017
IPC:
H01L 21/3213 (2006.01)
[IPC code unknown for H01L 21/3213]
Applicants:
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 ORDOS YUANSHENG OPTOELECTRONICS CO., LTD. [CN/CN]; 中国内蒙古自治区鄂尔多斯市 东胜区鄂尔多斯装备制造基地 Ordos Equipment Manufacturing Base, Dongsheng District Ordos, Inner Mongolia 017020, CN
Inventors:
霍晓迪 HUO, Xiaodi; CN
吴国特 WU, Guote; CN
李淳东 LEE, Soondong; CN
李知勋 LEE, Jihoon; CN
Agent:
北京市柳沈律师事务所 LIU, SHEN & ASSOCIATES; 中国北京市 海淀区彩和坊路10号1号楼10层 10th Floor, Building 1, 10 Caihefang Road, Haidian District Beijing 100080, CN
Priority Data:
201610720311.424.08.2016CN
Title (EN) ALUMINUM-CONTAINING FILM LAYER PATTERN, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND POST-PROCESSING METHOD THEREOF
(FR) MOTIF DE COUCHE DE FILM CONTENANT DE L'ALUMINIUM, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET SON PROCÉDÉ DE POST-TRAITEMENT
(ZH) 包含铝的膜层图案、其制作方法及其后处理方法
Abstract:
(EN) The invention discloses an aluminum-containing film layer pattern, manufacturing method thereof, and post-processing method thereof. The manufacturing method uses a patterned photoresist layer (320) as mask to cover an aluminum-containing film layer (310) to be patterned. A chlorine-containing gas is used on the film layer (310) to perform a dry-etching process and to form a patterned film layer. Subsequently, dechlorination and the removal of a carrier substrate (200) are performed simultaneously on the formed aluminum-containing patterned film layer (310). The method increases productivity and reduces costs.
(FR) La présente invention concerne un motif de couche de film contenant de l'aluminium, son procédé de fabrication et son procédé de post-traitement. Le procédé de fabrication utilise une couche de résine photosensible à motifs (320) en tant que masque pour recouvrir une couche de film contenant de l'aluminium (310) dont les motifs doivent être formés. Un gaz contenant du chlore est utilisé sur la couche de film (310) pour effectuer un processus de gravure à sec et pour former une couche de film à motifs. Ensuite, la déchloration et l'élimination d'un substrat de support (200) sont effectuées simultanément sur la couche de film à motifs contenant de l'aluminium formée (310). Le procédé augmente la productivité et réduit les coûts.
(ZH) 一种包含铝的膜层图案、其制作方法及其后处理方法,该制作方法以覆盖在包含铝的待图案化膜层(310)上的图案化光刻胶层(320)为掩模,对待图案化膜层(310)采用包含氯气的气体进行干刻工艺形成图案化膜层;之后,对形成的包含铝的图案化膜层(310)同时进行脱氯处理和卸载承载基板(200)。该方法能够提高产能,节约成本。
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Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)