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1. (WO2018033511) METHOD FOR ENHANCING THE SEMICONDUCTOR MANUFACTURING YIELD
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Pub. No.:    WO/2018/033511    International Application No.:    PCT/EP2017/070567
Publication Date: 22.02.2018 International Filing Date: 14.08.2017
IPC:
G05B 19/418 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL).
HERMES MICROVISION, INC.; 7F, No.18, Puding Rd., East Dist. Hsinchu City, 300 (TW)
Inventors: FANG, Wei; (US)
Agent: PETERS, John; (NL)
Priority Data:
62/375,257 15.08.2016 US
62/543,242 09.08.2017 US
Title (EN) METHOD FOR ENHANCING THE SEMICONDUCTOR MANUFACTURING YIELD
(FR) PROCÉDÉ DE RENFORCEMENT DU RENDEMENT DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS
Abstract: front page image
(EN)Embodiments of the present disclosure provide systems and methods for enhancing the semiconductor manufacturing yield. Embodiments of the present disclosure provide a yield improvement system. The system comprises a training tool configured to generate training data based on receipt of one or more verified results of an inspection of a first substrate. The system also comprises a point determination tool configured to determine one or more regions on a second substrate to inspect based on the training data, weak point information for the second substrate, and an exposure recipe for a scanner of the second substrate.
(FR)Selon des modes de réalisation, la présente invention concerne des systèmes et des procédés de renforcement du rendement de fabrication de semi-conducteurs. Selon des modes de réalisation, la présente invention concerne un système d’amélioration de rendement. Le système comprend un outil d’apprentissage servant à générer des données d’apprentissage sur la base de la réception d’un ou plusieurs résultats vérifiés d’une inspection d’un premier substrat. Le système comprend également un outil de détermination de points servant à déterminer une ou plusieurs zones sur un deuxième substrat à inspecter sur la base des données d’apprentissage, d’informations de points faibles pour le deuxième substrat, et d’une recette d’exposition pour un numériseur du deuxième substrat.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)