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1. (WO2018032913) METHOD FOR PREPARING SPACER AND METHOD FOR PREPARING DISPLAY SUBSTRATE
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Pub. No.:    WO/2018/032913    International Application No.:    PCT/CN2017/092617
Publication Date: 22.02.2018 International Filing Date: 12.07.2017
IPC:
G03F 7/00 (2006.01), G02F 1/1339 (2006.01)
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Road, Chaoyang District Beijing 100015 (CN)
Inventors: JUNG, Bongkwan; (CN).
WANG, Weijie; (CN).
ZENG, Qinghui; (CN)
Agent: CHINA PATENT AGENT (H.K.) LTD.; 22/F, Great Eagle Centre 23 Harbour Road, Wanchai Hong Kong (CN)
Priority Data:
201610681530.6 17.08.2016 CN
Title (EN) METHOD FOR PREPARING SPACER AND METHOD FOR PREPARING DISPLAY SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE PIÈCE INTERCALAIRE ET PROCÉDÉ DE PRÉPARATION D’UN SUBSTRAT D’AFFICHAGE
(ZH) 隔垫物的制备方法和显示基板的制备方法
Abstract: front page image
(EN)A method for preparing a spacer and a method for preparing a display substrate. The method for preparing a spacer comprises: overdeveloping an exposed photoresist layer to form a first photoresist pattern and a second photoresist pattern on a substrate (103, 204); forming a recess at the outer edge, close to the substrate, of the lower part of the first photoresist pattern, and forming a recess at the outer edge, close to the substrate, of the lower part of the second photoresist pattern; and waiting for a first time period, so that photoresist on the surface of the first photoresist pattern flows downwards to fill the recess of the first photoresist pattern, and photoresist on the surface of the second photoresist pattern flows downwards to fill the recess of the second photoresist pattern (104, 205). The method can simplify the spacer preparing process and reduce the spacer preparing costs.
(FR)La présente invention concerne un procédé de préparation d’une pièce intercalaire et un procédé de préparation d’un substrat d’affichage. Le procédé de préparation d’une pièce intercalaire comprend : le surdéveloppement d’une couche exposée de résine photodurcissable pour former un premier motif de résine photodurcissable et un second motif de résine photodurcissable sur un substrat (103, 204) ; la formation d’un renfoncement au niveau du bord externe, près du substrat, de la partie inférieure du premier motif de résine photosensible, et la formation d’un renfoncement au niveau du bord externe, près du substrat, de la partie inférieure du second motif de résine photosensible ; et l’attente pendant une première période, de sorte que la résine photosensible sur la surface du premier motif de résine photosensible s’écoule vers le bas pour remplir le renfoncement du premier motif de résine photosensible, et la résine photosensible sur la surface du second motif de résine photosensible s’écoule vers le bas pour remplir le renfoncement du second motif de résine photosensible (104, 205). Le procédé peut simplifier le procédé de préparation de pièce intercalaire et réduire les coûts de préparation de ladite pièce.
(ZH)一种隔垫物的制备方法和显示基板的制备方法。该隔垫物的制备方法包括:对经过曝光处理的光刻胶层进行过度显影处理,以在基板上形成第一光刻胶图案和第二光刻胶图案(103,204);在第一光刻胶图案靠近基板的下部的外边缘形成有凹部,在第二光刻胶图案靠近基板的下部的外边缘形成有凹部;等待第一时长,使第一光刻胶图案表面的光刻胶向下流动以填充第一光刻胶图案的凹部,并使第二光刻胶图案表面的光刻胶向下流动以填充第二光刻胶图案的凹部(104,205)。该方法能够简化制备隔垫物的工艺,降低制备隔垫物的成本。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)