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Pub. No.: WO/2018/031200 International Application No.: PCT/US2017/042493
Publication Date: 15.02.2018 International Filing Date: 18.07.2017
H01J 37/32 (2006.01) ,C23C 14/56 (2006.01) ,C23C 14/34 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.[US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventors: SHEELAVANT, Gangadhar; IN
BADUVAMANDA, Cariappa Achappa; IN
VASANTHA, Bopanna Ichettira; IN
Agent: PATTERSON, B. Todd; US
Priority Data:
Abstract: front page image
(EN) A process kit ring for use in a plasma processing system is disclosed herein. The process kit ring includes an annular body and one or more hollow inner cavities. The annular body is formed from a plasma resistant material. The annular body has an outer diameter greater than 200 mm. The annular body includes a top surface and a bottom surface. The top surface is configured to face a plasma processing region of a process chamber. The bottom surface is opposite the top surface. The bottom surface is substantially perpendicular to a centerline of the body. The bottom surface is supported at least partially by a pedestal assembly. The one or more hollow inner cavities are formed in the annular body about the centerline. The one or more hollow inner cavities are arranged in a circle within the annular body.
(FR) L'invention concerne un anneau de kit de traitement destiné à être utilisé dans un système de traitement au plasma. L'anneau de kit de traitement comprend un corps annulaire et une ou plusieurs cavités internes creuses. Le corps annulaire est constitué d'un matériau résistant au plasma. Le corps annulaire présente un diamètre extérieur supérieur à 200 mm Le corps annulaire comprend une surface supérieure et une surface inférieure. La surface supérieure est configurée pour faire face à une région de traitement au plasma d'une chambre de traitement. La surface inférieure est opposée à la surface supérieure. La surface inférieure est sensiblement perpendiculaire à une ligne centrale du corps. La surface inférieure est supportée au moins partiellement par un assemblage socle. La ou les cavités internes creuses sont formées dans le corps annulaire autour de la ligne centrale. La ou les cavités internes creuses sont disposées en cercle à l'intérieur du corps annulaire.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)