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1. (WO2018030004) MULTI-STAGE DRYING APPARATUS AND MULTI-STAGE DRYING METHOD FOR PLATE MATERIALS TO BE TREATED
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Pub. No.:    WO/2018/030004    International Application No.:    PCT/JP2017/023369
Publication Date: 15.02.2018 International Filing Date: 26.06.2017
IPC:
B27D 3/02 (2006.01), F26B 3/20 (2006.01), F26B 15/12 (2006.01)
Applicants: TAIHEI MACHINERY WORKS, LTD. [JP/JP]; 955-8, Aza-miyamae, Oaza-irukadeshinden, Komaki-shi, Aichi 4850084 (JP)
Inventors: ISHIGURO, Masaru; (JP).
MIZUTANI, Keisuke; (JP).
KATO, Wataru; (JP).
SATO, Noriyuki; (JP).
AOYAMA, Kazuya; (JP)
Agent: HARIKAWA, Takashi; (JP)
Priority Data:
2016-156476 09.08.2016 JP
Title (EN) MULTI-STAGE DRYING APPARATUS AND MULTI-STAGE DRYING METHOD FOR PLATE MATERIALS TO BE TREATED
(FR) APPAREIL DE SÉCHAGE À ÉTAGES MULTIPLES ET PROCÉDÉ DE SÉCHAGE À ÉTAGES MULTIPLES POUR MATÉRIAUX EN PLAQUES À TRAITER
(JA) 被処理板材の多段乾燥装置及び多段乾燥方法
Abstract: front page image
(EN)A horizontal type multi-stage press apparatus 1 (a multi-stage drying apparatus) is provided with conveyance routes R1 to R4 (first to fourth conveyance routes) on which a single plate W1 (a plate material to be treated) in a standing state is conveyed. The conveyance route R1 is disposed across a loader device 10 and a hot press device 20, the conveyance route R2 is disposed across the hot press device 20 and an open evaporation device 40, the conveyance route R3 is disposed across the open evaporation device 40 and a temperature adjusting press device 50, and the conveyance route R4 is disposed across the temperature adjusting press device 50 and an unloader device 60. The conveyance routes R1 to R4 are arranged in one straight line in a plan view. A plurality of the single plates W1 held by the open evaporation device 40 are set such that water vapor can be dissipated from both surfaces, in a standing state, of each of the single plates W1. The finishing temperature of each of the single plates W1 is maintained at a desired temperature by the temperature adjusting press device 50. Accordingly, a multi-stage drying apparatus and a multi-stage drying method for plate materials to be treated are provided in which a single plate having a certain quality can be produced while a space occupied by the entire apparatus is reduced.
(FR)Un appareil de pressage à étages multiples de type horizontal 1 (un appareil de séchage à plusieurs étages) est pourvu de voies de transport R1 à R4 (1 à 4 voies de transport) sur lequel une seule plaque est transportée W1 (un matériau de plaque à traiter) dans un état stationnaire. Le trajet de transport R1 est disposé à travers un dispositif de chargement 10 et un dispositif de pressage à chaud 20, le trajet de transport R2 étant disposé à travers le dispositif de pressage à chaud 20 et un dispositif d'évaporation ouvert 40, le trajet de transport R3 est disposé à travers le dispositif d'évaporation ouvert 40 et un dispositif de presse de réglage de température 50, et le trajet de transport R4 est disposé à travers le dispositif de presse de réglage de température 50 et un dispositif de déchargement 60. Les voies de transport R1 à R4 sont disposées en une ligne droite dans une vue en plan. Une pluralité de plaques uniques W1, maintenues par le dispositif d'évaporation ouvert 40, sont réglées de sorte que la vapeur d'eau puisse être dissipée à partir des deux surfaces, à l'état debout, de chacune des plaques uniques W1. La température de finition de chacune des plaques individuelles W1 est maintenue à une température désirée par le dispositif de presse de réglage de température 50. En conséquence, l'invention porte sur un appareil de séchage à plusieurs étages et sur un procédé de séchage à plusieurs étages pour des matériaux de plaque à traiter dans lequel une seule plaque ayant une certaine qualité peut être produite tandis qu'un espace occupé par l'ensemble de l'appareil est réduit.
(JA)横型多段プレス装置1(多段乾燥装置)は、単板W1(被処理板材)を起立状態で搬出する搬送経路R1~R4(第一~第四搬送経路)を備える。搬送経路R1は、ローダ装置10とホットプレス装置20間に、搬送経路R2は、ホットプレス装置20と開放蒸散装置40間に、搬送経路R3は、開放蒸散装置40と調温プレス装置50間に、搬送経路R4は、調温プレス装置50とアンローダ装置60間に、それぞれ跨って位置する。搬送経路R1~R4は平面視で一直線状に配置される。開放蒸散位置40に保持された複数の単板W1は、起立状態にある両表面から水蒸気を放散可能とされる。調温プレス装置50によって各単板W1は、その仕上がり温度が所望の温度に維持される。これにより、装置全体の占めるスペースを抑制しつつ、一定の品質を有する単板を製造可能な多段乾燥装置及び多段乾燥方法を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)