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1. (WO2018028971) VARIABLE CORRECTOR OF A WAVE FRONT
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Pub. No.: WO/2018/028971 International Application No.: PCT/EP2017/068435
Publication Date: 15.02.2018 International Filing Date: 21.07.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G01N 21/95 (2006.01) ,G01N 21/956 (2006.01) ,G02B 27/00 (2006.01)
Applicants: ASML HOLDING N.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors: SMIRNOV, Stanislav; US
DE WIT, Johannes, Matheus, Marie; NL
TUKKER, Teunis, Willem; NL
KOOLEN, Armand, Eugene, Albert; NL
Agent: SLENDERS, Peter; NL
Priority Data:
62/373,73411.08.2016US
Title (EN) VARIABLE CORRECTOR OF A WAVE FRONT
(FR) CORRECTEUR VARIABLE DE FRONT D'ONDE
Abstract: front page image
(EN) An optical inspection apparatus, including: an optical metrology tool configured to measure structures patterned on a substrate, the optical metrology tool comprising: an electromagnetic (EM) radiation source configured to direct a beam of EM radiation along an EM radiation path; an adaptive optical system disposed in a portion of the EM radiation path and configured to adjust a shape of a wave front of the beam of EM radiation, the adaptive optical system comprising: a first aspherical optical element; a second aspherical optical element adjacent the first aspherical optical element; and an actuator configured to cause relative movement between the first optical element and the second optical element in a direction different from a beam axis of the portion of the EM radiation path.
(FR) L'invention concerne un appareil d'inspection optique comprenant : un outil de métrologie optique configuré pour mesurer des structures formant un motif sur un substrat, l'outil de métrologie optique comprenant : une source de rayonnement électromagnétique (EM) conçue pour diriger un faisceau de rayonnement EM le long d'un trajet de rayonnement EM ; un système optique adaptatif, placé dans une partie du trajet de rayonnement EM et conçu pour régler la forme d'un front d'onde du faisceau de rayonnement EM. Le système optique adaptatif comprend : un premier élément optique asphérique ; un second élément optique asphérique, adjacent au premier élément optique asphérique ; et un actionneur, conçu pour produire un mouvement relatif entre le premier élément optique et le second élément optique dans une direction différente de l'axe de faisceau de la partie du trajet de rayonnement EM.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)