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1. (WO2018027010) SURFACE DEFECT INSPECTION WITH LARGE PARTICLE MONITORING AND LASER POWER CONTROL
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Pub. No.:    WO/2018/027010    International Application No.:    PCT/US2017/045261
Publication Date: 08.02.2018 International Filing Date: 03.08.2017
IPC:
H01L 21/66 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventors: CUI, Steve Yifeng; (US).
HUANG, Jay (Chunsheng); (US).
WANG, Chunhai; (US).
WOLTERS, Christian; (US).
WHITESIDE, Bret; (US).
ROMANOVSKY, Anatoly; (US).
HUANG, Chuanyong; (US).
PETTIBONE, Donald; (US)
Agent: MCANDREWS, Kevin; (US).
MORRIS, Elizabeth M. N.; (US)
Priority Data:
15/230,330 05.08.2016 US
Title (EN) SURFACE DEFECT INSPECTION WITH LARGE PARTICLE MONITORING AND LASER POWER CONTROL
(FR) INSPECTION DE DÉFAUTS DE SURFACE AVEC CONTRÔLE DE PARTICULES DE GRANDE TAILLE ET COMMANDE DE PUISSANCE LASER
Abstract: front page image
(EN)Methods and systems for reducing illumination intensity while scanning over large particles are presented herein. A surface inspection system determines the presence of a large particle in the inspection path of a primary measurement spot using a separate leading measurement spot. The inspection system reduces the incident illumination power while the large particle is within the primary measurement spot. The primary measurement spot and the leading measurement spot are separately imaged by a common imaging collection objective onto one or more detectors. The imaging based collection design spatially separates the image of the leading measurement spot from the image of the primary measurement spot at one or more wafer image planes. Light detected from the leading measurement spot is analyzed to determine a reduced power time interval when the optical power of the primary illumination beam and the leading illumination beam are reduced.
(FR)L'invention concerne des procédés et des systèmes pour réduire l'intensité d'éclairage pendant le balayage sur des particules de grande taille. Un système d'inspection de surface détermine la présence d'une particule de grande taille dans le trajet d'inspection d'un point lumineux de mesure primaire à l'aide d'un point lumineux de mesure avant séparé. Le système d'inspection réduit la puissance d'éclairage incidente lorsque la particule de grande taille se trouve dans le point lumineux de mesure primaire. Le point lumineux de mesure primaire et le point lumineux de mesure avant sont imagés séparément par un objectif de collecte d'imagerie commun sur un ou plusieurs détecteurs. La conception de collecte basée sur l'imagerie sépare spatialement l'image du point lumineux de mesure avant de l'image du point lumineux de mesure primaire au niveau d'un ou de plusieurs plans d'image de tranche. La lumière détectée à partir du point lumineux de mesure avant est analysée pour déterminer un intervalle de temps de puissance réduit lorsque la puissance optique du faisceau d'éclairage primaire et du faisceau d'éclairage avant est réduite.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)