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1. (WO2018026731) LARGE-AREA VHF PECVD CHAMBER FOR LOW-DAMAGE AND HIGH-THROUGHPUT PLASMA PROCESSING
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Pub. No.:    WO/2018/026731    International Application No.:    PCT/US2017/044750
Publication Date: 08.02.2018 International Filing Date: 31.07.2017
IPC:
H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: SHENG, Shuran; (US).
ABE, Shinobu; (JP).
KUWAHARA, Keita; (JP).
CHO, Su Ho; (US)
Agent: PATTERSON, B. Todd; (US).
VER STEEG, Steven H.; (US)
Priority Data:
62/369,660 01.08.2016 US
Title (EN) LARGE-AREA VHF PECVD CHAMBER FOR LOW-DAMAGE AND HIGH-THROUGHPUT PLASMA PROCESSING
(FR) CHAMBRE VHF PECVD DE GRANDE SURFACE POUR TRAITEMENT AU PLASMA À FAIBLE ENDOMMAGEMENT ET HAUT DÉBIT
Abstract: front page image
(EN)Embodiments disclosed herein generally relate to a plasma processing system for modifying the uniformity pattern of a thin film deposited in a plasma processing chamber which includes at least one VHF power generator coupled to a diffuser within the plasma processing chamber. The feeding location offset of each VHF power generator and the controlling of each VHF power generator via phase modulation and sweeping allows for plasma uniformity improvements by compensating for the non-uniformity of the thin film patterns produced by the chamber, due to the standing wave effect. The power distribution between the multiple VHF power generators coupled to and/or disposed at different locations on the backing plate may be produced by dynamic phase modulation between the VHF power applied at the different coupling points.
(FR)Des modes de réalisation de l'invention concernent généralement un système de traitement au plasma permettant de modifier le motif d'uniformité d'un film mince déposé dans une chambre de traitement au plasma qui comprend au moins un générateur de puissance VHF couplé à un diffuseur à l'intérieur de la chambre de traitement au plasma. Le décalage de l'emplacement d'alimentation de chaque générateur d'énergie VHF et la commande de chaque générateur d'énergie VHF par modulation et balayage de phase permettent d'améliorer l'uniformité du plasma par compensation de la non-uniformité des motifs de film mince produits par la chambre, en raison de l'effet d'onde stationnaire. La distribution de puissance entre les multiples générateurs de puissance VHF couplés à et/ou disposés à différents emplacements sur la plaque de support peut être produite par modulation de phase dynamique entre la puissance VHF appliquée aux différents points de couplage.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)