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1. (WO2018025953) COMPOSITION FOR FORMING RELEASE LAYER, AND RELEASE LAYER
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Pub. No.: WO/2018/025953 International Application No.: PCT/JP2017/028204
Publication Date: 08.02.2018 International Filing Date: 03.08.2017
IPC:
C09D 179/08 (2006.01) ,B32B 27/00 (2006.01) ,B32B 27/34 (2006.01) ,C08G 73/10 (2006.01) ,C08L 79/08 (2006.01) ,C09D 7/12 (2006.01)
Applicants: NISSAN CHEMICAL CORPORATION[JP/JP]; 5-1, Nihonbashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1036119, JP
Inventors: EBARA Kazuya; JP
SHINDO Kazuya; JP
Agent: PATENT PROFESSIONAL CORPORATION EI-MEI PATENT OFFICE; GINZA OHTSUKA Bldg. 2F, 16-12, Ginza 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061, JP
Priority Data:
2016-15250703.08.2016JP
2016-15254903.08.2016JP
Title (EN) COMPOSITION FOR FORMING RELEASE LAYER, AND RELEASE LAYER
(FR) COMPOSITION DESTINÉE À LA FORMATION D'UNE COUCHE ANTIADHÉSIVE, ET COUCHE ANTIADHÉSIVE
(JA) 剥離層形成用組成物及び剥離層
Abstract: front page image
(EN) Provided is a composition for forming a release layer, the composition including polyamic acid represented by formula (1) and an organic solvent. (In the formula, X represents an aromatic group represented by formula (2a) or (2b), Y represents a divalent aromatic group having a fluorine atom, Z each independently represent an aromatic group represented by formula (3a) or (4a) when X is represented by formula (2a) or each independently represent an aromatic group represented by formula (3b) or (4b) when X is represented by formula (2b), and m represents a natural number.)
(FR) L'invention concerne une composition destinée à former une couche antiadhésive, la composition comprenant un poly(acide amique) représenté par la formule (1) et un solvant organique. (Dans la formule, X représente un groupe aromatique représenté par la formule (2a) ou (2b), Y représente un groupe aromatique divalent comportant un atome de fluor, chaque Z représente d'une manière indépendante un groupe aromatique représenté par la formule (3a) ou (4a) quand X est représenté par la formule (2a), ou chacun d'eux représente d'une manière indépendante un groupe aromatique représenté par la formule (3b) ou (4b) quand X est représenté par la formule (2b), et m représente un entier naturel).
(JA) 下記式(1)で表されるポリアミック酸と有機溶媒とを含む剥離層形成用組成物を提供する。(式中、Xは、下記式(2a)又は(2b)で表される芳香族基を表し、Yは、フッ素原子を有する2価の芳香族基を表し、Zは、Xが式(2a)である場合、互いに独立して、下記式(3a)又は(4a)で表される芳香族基を表し、Xが式(2b)である場合、互いに独立して、下記式(3b)又は(4b)で表される芳香族基を表し、mは、自然数を表す。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)