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1. (WO2018025395) LAMINATE COMPRISING ATOMIC LAYER DEPOSITION LAYER, BARRIER FILM, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
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Pub. No.:    WO/2018/025395    International Application No.:    PCT/JP2016/073086
Publication Date: 08.02.2018 International Filing Date: 05.08.2016
IPC:
C23C 16/54 (2006.01)
Applicants: TOPPAN PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016 (JP)
Inventors: SATO Jin; (JP).
KANO Mitsuru; (JP).
KOYAMA Hiroshi; (JP)
Agent: SUZUKI Shirou; (JP).
SHIGA Masatake; (JP).
TAKAHASHI Norio; (JP).
FUSHIMI Shunsuke; (JP)
Priority Data:
Title (EN) LAMINATE COMPRISING ATOMIC LAYER DEPOSITION LAYER, BARRIER FILM, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) STRATIFIÉ COMPRENANT UNE COUCHE DE DÉPÔT DE COUCHE ATOMIQUE, FILM FORMANT UNE BARRIÈRE ET PROCÉDÉ POUR SA PRODUCTION
(JA) 原子層堆積層を含む積層体、バリアフィルム、およびこれらの製造方法
Abstract: front page image
(EN)A laminate provided with: a substrate, which is configured from a polymer material and has functional groups capable of binding with precursors that are a film-forming starting material for an atomic layer deposition film that contains a first inorganic substance; an undercoat layer, which is disposed on at least a portion of the outer surface of the substrate and is configured from the atomic layer deposition film containing the precursors, and in which said precursors are bound to the functional groups located on the outer surface of the substrate; a functional layer, which is disposed so as to cover the outer surface of the undercoat layer and contains a second inorganic substance; and an overcoat layer, which covers the outer surface of the functional layer.
(FR)L'invention porte sur un stratifié pourvu : d'un substrat, qui est constitué par un matériau polymère et qui présente des groupes fonctionnels pouvant se lier à des précurseurs qui sont un matériau de départ filmogène pour un film de dépôt de couche atomique qui contient une première substance inorganique ; d'une couche de sous-revêtement, qui est disposée sur au moins une partie de la surface externe du substrat et qui est conçue à partir du film de dépôt de couche atomique contenant les précurseurs et dans laquelle lesdits précurseurs sont liés aux groupes fonctionnels situés sur la surface externe du substrat ; d'une couche fonctionnelle, qui est disposée de manière à recouvrir la surface externe de la couche de sous-revêtement et qui contient une deuxième substance inorganique ; et d'une couche de recouvrement, qui recouvre la surface externe de la couche fonctionnelle.
(JA)積層体であって、高分子材料から構成され、かつ、第1の無機物質を含む原子層堆積膜の成膜原料となる前駆体と結合可能な官能基を有する基材と、前記基材の外面の少なくとも一部に配置され、前記前駆体を含む前記原子層堆積膜で構成され、前記前駆体が前記基材の前記外面に位置する前記官能基と結合されたアンダーコート層と、前記アンダーコート層の外面を覆うように配置され、第2の無機物質を含有する機能層と、前記機能層の外面を覆うオーバーコート層と、を備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)