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1. (WO2018024529) POSITIONING SYSTEM, CONTROL SYSTEM, METHOD TO POSITION, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
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Pub. No.: WO/2018/024529 International Application No.: PCT/EP2017/068639
Publication Date: 08.02.2018 International Filing Date: 24.07.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/68 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors: SCHNEIDERS, Mauritius, Gerardus, Elisabeth; NL
AANGENENT, Wilhelmus, Henricus, Theodorus, Maria; NL
Agent: RAS, Michael; NL
Priority Data:
16182694.604.08.2016EP
Title (EN) POSITIONING SYSTEM, CONTROL SYSTEM, METHOD TO POSITION, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME DE POSITIONNEMENT, SYSTÈME DE COMMANDE, PROCÉDÉ DE POSITIONNEMENT, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN) The invention relates to a positioning system for positioning an object, comprising a base frame, a balance mass, a position actuator, a drift actuator and a control system, wherein the position actuator is arranged to apply a first force between the object and the balance mass to position the object, wherein the drift actuator is arranged to apply a second force between the balance mass and the base frame to position the balance mass relative to the base frame, wherein the control system is configured to control the position actuator based on a sequence of setpoints that is representative for desired positions of the object relative to a reference, wherein the control system is configured to determine a determined trajectory based on the sequence of setpoints before using the sequence of setpoints to control the position actuator, and to control the drift actuator based on the determined trajectory.
(FR) La présente invention concerne un système de positionnement qui permet de positionner un objet et qui comporte un cadre de base, une masse d'équilibrage, un actionneur de position, un actionneur de dérive et un système de commande, l'actionneur de position étant agencé pour appliquer une première force entre l'objet et la masse d'équilibrage afin de positionner l'objet, l'actionneur de dérive étant agencé pour appliquer une seconde force entre la masse d'équilibrage et le cadre de base afin de positionner la masse d'équilibrage par rapport au cadre de base, le système de commande étant configuré pour commander l'actionneur de position sur la base d'une séquence de points de consigne qui représente les positions souhaitées de l'objet par rapport à une référence, le système de commande étant configuré pour déterminer une trajectoire déterminée sur la base de la séquence des points de consigne, avant l'utilisation de la séquence de points de consigne pour commander l'actionneur de position, et pour commander l'actionneur de dérive sur la base de la trajectoire déterminée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)