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1. (WO2018024446) METROLOGY METHOD AND APPARATUS, COMPUTER PROGRAM AND LITHOGRAPHIC SYSTEM
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Pub. No.:    WO/2018/024446    International Application No.:    PCT/EP2017/067393
Publication Date: 08.02.2018 International Filing Date: 11.07.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: THEEUWES, Thomas; (NL).
CRAMER, Hugo, Augustinus, Joseph; (NL)
Agent: PETERS, John; (NL)
Priority Data:
16182166.5 01.08.2016 EP
Title (EN) METROLOGY METHOD AND APPARATUS, COMPUTER PROGRAM AND LITHOGRAPHIC SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE MÉTROLOGIE, PROGRAMME INFORMATIQUE ET SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method of reconstructing a characteristic of a structure formed on a substrate by a lithographic process, and an associated metrology apparatus. The method comprises combining measured values of a first parameter associated with the lithographic process to obtain an estimated value of the first parameter; and reconstructing at least a second parameter associated with the characteristic of the structure using the estimated value of the first parameter and a measurement of the structure. The combining step may comprise modeling a variation of the first parameter to obtain a parameter model or fingerprint of the first parameter.
(FR)La présente invention porte sur un procédé de reconstruction d'une caractéristique d'une structure formée sur un substrat au moyen d'un procédé lithographique, et sur un appareil de métrologie associé. Le procédé consiste à combiner des valeurs mesurées d'un premier paramètre associé au procédé lithographique afin d'obtenir une valeur estimée du premier paramètre; et à reconstruire au moins un second paramètre associé à la caractéristique de la structure à l'aide de la valeur estimée du premier paramètre et d'une mesure de la structure. L'étape de combinaison peut consister à modéliser une variation du premier paramètre pour obtenir un modèle de paramètre ou une empreinte du premier paramètre.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)