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1. (WO2018022444) REFRACTIVE INDEX-MATCHED ADDITIVES FOR PHOTO-CURABLE COMPOSITIONS
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Pub. No.:    WO/2018/022444    International Application No.:    PCT/US2017/043246
Publication Date: 01.02.2018 International Filing Date: 21.07.2017
IPC:
G03F 7/26 (2006.01)
Applicants: IMERYS FILTRATION MINERALS, INC. [US/US]; 1732 North First Street, Suite 450 San Jose, California 95112 (US)
Inventors: TREAT, Neil; (US).
PATEL, Navin; (US)
Agent: TOTTEN, Jeffrey; (US).
CARRON, Virginia; (US)
Priority Data:
62/367,402 27.07.2016 US
Title (EN) REFRACTIVE INDEX-MATCHED ADDITIVES FOR PHOTO-CURABLE COMPOSITIONS
(FR) ADDITIFS À INDICE DE RÉFRACTION ADAPTÉ POUR DES COMPOSITIONS PHOTODURCISSABLES
Abstract: front page image
(EN)This disclosure describes a refractive index-matched photo-curable composition containing a photo-curable resin, and a refractive index-matched additive, in which a ratio of a refractive index of the additive to a refractive index of the photo-curable resin ranges from about 0.8:1 to about 1.2:1. Also disclosed herein is an additive-manufacturing process, including the steps of delivering the refractive index-matched photo-curable composition onto a working surface to obtain a pre-polymer deposit on the working surface, and applying photons to the pre-polymer deposit to obtain a polymer in the form of a section plane of a component. Also disclosed herein are a method for increasing the curing rate of a photo-initiated polymerization, and a method for improving the mechanical properties of a composite material.
(FR)La présente invention concerne une composition photodurcissable à indice de réfraction adapté contenant une résine photodurcissable, et un additif à indice de réfraction adapté, un rapport entre un indice de réfraction de l'additif et un indice de réfraction de la résine photodurcissable variant entre environ 0,8:1 et environ 1,2:1. La présente invention porte également sur un procédé de fabrication additive, comprenant les étapes consistant à administrer la composition photodurcissable à indice de réfraction adapté sur une surface de travail pour obtenir un dépôt de prépolymère sur la surface de travail, et à appliquer des photons sur le dépôt de prépolymère pour obtenir un polymère sous la forme d'un plan de section d'un composant. La présente invention porte également sur un procédé permettant d'augmenter le taux de durcissement d'une polymérisation photo-initiée, ainsi que sur un procédé permettant d'améliorer les propriétés mécaniques d'un matériau composite.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)