WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2018022304) SKETCH-EFFECT HATCHING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2018/022304 International Application No.: PCT/US2017/041809
Publication Date: 01.02.2018 International Filing Date: 13.07.2017
IPC:
G06T 11/40 (2006.01)
Applicants: MICROSOFT TECHNOLOGY LICENSING, LLC[US/US]; One Microsoft Way Redmond, Washington 98052-6399, US
Inventors: SHI, Wen; US
QU, Ante; US
Agent: MINHAS, Sandip; US
CHEN, Wei-Chen Nicholas; US
DRAKOS, Katherine J.; US
HINOJOSA, Brianna L.; US
HOLMES, Danielle J.; US
SWAIN, Cassandra T.; US
WONG, Thomas S.; US
CHOI, Daniel; US
HWANG, William C.; US
WIGHT, Stephen A.; US
CHATTERJEE, Aaron C.; US
Priority Data:
15/222,90028.07.2016US
Title (EN) SKETCH-EFFECT HATCHING
(FR) HACHURAGE À EFFET DE CROQUIS
Abstract: front page image
(EN) Computer efficiency improved sketch-effect hatching is provided. A hatching tool generates a bounding area associated with an object, within which a plurality of hatching line segment strokes is generated. The strokes are generated by generating center points on equally or near-equally spaced parallel columns within the bounding area that are vertically-offset from each other by randomly-generated stroke lengths. The center points are then randomly horizontally-offset from the columns according to a calculated deviation. A random angle deviation is derived, and end points of the strokes are calculated based on the new center points, stroke lengths, and angle deviations. The strokes are then enhanced by generating overstrokes. Further, the hatching tool maps the strokes to the object, rotates the strokes by a hatching angle, keystone-corrects the strokes, and clips the strokes to fit within the object's boundary. The strokes are output to provide a hand-sketched hatching effect.
(FR) L'invention concerne un hachurage à effet de croquis dont le rendement informatique est amélioré. Un outil de hachurage génère une zone de délimitation associée à un objet, à l'intérieur de laquelle une pluralité de traits de segments de lignes de hachurage est générée. Les traits sont générés en générant des points centraux sur des colonnes parallèles d'espacement égal ou quasi-égal à l'intérieur de la zone de délimitation, qui sont décalés verticalement les uns par rapport aux autres par des longueurs de traits générées aléatoirement. Les points centraux sont ensuite décalés horizontalement aléatoirement par rapport aux colonnes selon un écart calculé. Un écart angulaire aléatoire est déduit, et des points d'extrémités des traits sont calculés sur la base des nouveaux points centraux, des nouvelles longueurs de traits et des nouveaux écarts angulaires. Les traits sont ensuite accentués en générant des traits de surcharge. En outre, l'outil de hachurage fait correspondre les traits à l'objet, fait pivoter les traits d'un angle de hachurage, applique une correction de trapèze aux traits, et rogne les traits pour qu'ils s'ajustent à l'intérieur de la frontière de l'objet. Les traits sont délivrés pour donner un effet de hachurage de croquis tracé à la main.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)