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1. (WO2018022298) MPC WITH UNCONSTRAINED DEPENDENT VARIABLES FOR KPI PERFORMANCE ANALYSIS
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Pub. No.:    WO/2018/022298    International Application No.:    PCT/US2017/041661
Publication Date: 01.02.2018 International Filing Date: 12.07.2017
IPC:
G06Q 10/06 (2012.01), G06F 17/00 (2006.01)
Applicants: HONEYWELL INTERNATIONAL INC. [US/US]; Intellectual Property-Patent Services 115 Tabor Road, M/S 4D3 P. O. Box 377 Morris Plains, New Jersey 07950 (US)
Inventors: TRENCHARD, Andrew John; (US).
OGDEN-SWIFT, Andrew; (US)
Agent: SZUCH, Colleen D.; (US)
Priority Data:
15/221,755 28.07.2016 US
Title (EN) MPC WITH UNCONSTRAINED DEPENDENT VARIABLES FOR KPI PERFORMANCE ANALYSIS
(FR) MPC AVEC VARIABLES DÉPENDANTES NON CONTRAINTES POUR ANALYSE DE PERFORMANCES PAR KPI
Abstract: front page image
(EN)A method (100) of Key Performance Indicator (KPI) performance analysis. A dynamic Model Predictive Control (MPC) process model for an industrial process including measured variables (MVs) and controlled variables (CVs) for an MPC controller is provided (101). The MPC process model includes at least one KPI that is also included in a business KPI monitoring system for the industrial process. A future trajectory of the KPI and a steady-state (SS) value for the KPI are estimated (102). The future trajectory and SS value are used (103) for determining dynamic relationships between key plant operating variables selected from the CVs and MVs, and the KPI. A performance of the KPI is analyzed (104) including identifying at least one cause of a problem in the performance or exceeding the performance during operation of the industrial process from the dynamic relationships and a current value for at least a portion of the MVs.
(FR)L'invention concerne un procédé (100) d'analyse de performances par indicateurs-clés de performances (KPI). Un modèle dynamique de processus à commande prédictive avec modèle (MPC) pour un processus industriel comprenant des variables mesurées (MV) et des variables commandées (CV) pour un moyen de commande à MPC est mis en place (101). Le modèle de processus à MPC comprend au moins un KPI qui est également compris dans un système de surveillance de KPI d'entreprise du processus industriel. Une trajectoire future du KPI et une valeur en régime établi (SS) du KPI sont estimées (102). La trajectoire future et la valeur en SS sont utilisées (103) pour déterminer des relations dynamiques entre des variables-clés d'exploitation d'usine, sélectionnées parmi les CV et les MV, et le KPI. Des performances du KPI sont analysées (104), ce qui comprend l'identification d'au moins une cause d'un problème dans les performances ou d'un dépassement des performances pendant l'exploitation du processus industriel à partir des relations dynamiques et d'une valeur actuelle d'au moins une partie des MV.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)