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1. (WO2018021497) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT, INTERLAYER INSULATING FILM, TFT ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
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Pub. No.:    WO/2018/021497    International Application No.:    PCT/JP2017/027325
Publication Date: 01.02.2018 International Filing Date: 27.07.2017
IPC:
G03F 7/027 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01), C08F 290/14 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01)
Applicants: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008251 (JP)
Inventors: ISHII Hiroaki; (JP).
SAITO Keiko; (JP)
Agent: EIKOH PATENT FIRM, P.C.; Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2016-150610 29.07.2016 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT, INTERLAYER INSULATING FILM, TFT ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PRODUIT DURCI, FILM ISOLANT INTERCOUCHE, SUBSTRAT DE MATRICE ACTIVE TFT ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE
(JA) 感光性樹脂組成物、硬化物、層間絶縁膜、TFTアクティブマトリックス基板、及び画像表示装置
Abstract: front page image
(EN)This photosensitive resin composition contains (a) zirconium dioxide particles, (b) a dispersant, (c) a solvent, (d) a binder resin, (e) polymerizable monomers, and (f) a polymerization initiator, the binder resin (d) containing an epoxy (meth)acrylate resin having the repeating unit structure expressed in formula (I) and/or an epoxy (meth)acrylate resin having the partial structure represented in formula (II). (In the formulas, each of R1, R2, R3, R4, and * is as defined in the specification.)
(FR)L'invention concerne une composition de résine photosensible comprenant (a) des particules de dioxyde de zirconium, (b) un dispersant, (c) un solvant, (d) une résine liante, (e) des monomères polymérisables et (f) un amorceur de polymérisation, la résine liante (d) comprenant une résine époxy (méth)acrylate présentant la structure d'unité répétitive exprimée dans la formule (I) et/ou une résine époxy (méth)acrylate présentant la structure partielle représentée dans la formule (II). (Dans les formules, R1, R2, R3, R4, et * sont tels que définis dans la description.)
(JA)本発明の感光性樹脂組成物は、(a)二酸化ジルコニウム粒子、(b)分散剤、(c)溶剤、(d)バインダー樹脂、(e)重合性モノマー及び(f)重合開始剤を含有し、前記(d)バインダー樹脂が、下記式(I)で表される繰り返し単位構造を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂及び下記式(II)で表される部分構造を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂の少なくとも一方を含有する。(式中、R、R、R、R、*は、それぞれ、明細書に記載された定義と同様である。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)