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1. (WO2018021273) KIT, DETERGENT COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR ELEMENT
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Pub. No.:    WO/2018/021273    International Application No.:    PCT/JP2017/026786
Publication Date: 01.02.2018 International Filing Date: 25.07.2017
IPC:
C11D 7/08 (2006.01), C09D 9/00 (2006.01), C09J 5/00 (2006.01), C09J 125/04 (2006.01), C09J 183/04 (2006.01), C11D 7/32 (2006.01), C11D 7/34 (2006.01), C11D 7/50 (2006.01), H01L 21/02 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: KAMOCHI Yoshitaka; (JP)
Agent: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2016-149406 29.07.2016 JP
Title (EN) KIT, DETERGENT COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR ELEMENT
(FR) KIT, COMPOSITION DÉTERGENTE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ÉLÉMENT SEMI-CONDUCTEUR
(JA) キット、洗浄剤組成物および半導体素子の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided are: a kit including a detergent composition and a temporary adhesive that includes a silicone compound, the kit being capable of suitably removing a residue derived from the temporary adhesive; a detergent composition; and a method for producing a semiconductor element. A kit including a detergent composition that includes an acid or a base and an organic solvent, and a temporary adhesive that includes a silicone compound, a value represented by equation (a) of the acid being 0 to 10 and a value represented by equation (b) of the base being -5 to 0; Equation (a) ClogP - pKa Equation (b) ClogP - pKb In equations (a) and (b), ClogP indicates a value represented by the base 10 logarithm logP of P, which is a 1-octanol/water partition coefficient that represents a ratio of an equilibrium concentration in 1-octanol and water, pKa represents the acid dissociation constant, and pKb represents a basic dissociation constant.
(FR)L'invention concerne : un kit comprenant une composition détergente et un adhésif temporaire qui comprend un composé à base de silicone, le kit permettant d'éliminer de manière appropriée un résidu dérivé de l'adhésif temporaire ; une composition détergente ; et un procédé de production d'un élément semi-conducteur. L'invention porte sur un kit comprenant une composition détergente qui comprend un acide ou une base et un solvant organique et un adhésif temporaire qui comprend un composé à base de silicone, une valeur représentée par l'équation (a) de l'acide étant de 0 à 10 et une valeur représentée par l'équation (b) de la base étant de -5 à 0 ; Équation (a) ClogP - pKa ; Équation (b) ClogP - pKb. Dans les équations (a) et (b), ClogP indique une valeur représentée par le logarithme en base 10 logP de P, qui représente un coefficient de partage entre le 1-octanol/eau, qui représente un rapport d'une concentration d'équilibre dans le 1-octanol et dans l'eau, le pKa représente la constante de dissociation de l'acide et pKb représente une constante de dissociation de base.
(JA)シリコーン化合物を含む仮接着剤由来の残渣を適切に除去可能な、仮接着剤と洗浄剤組成物とを含むキット、洗浄剤組成物および半導体素子の製造方法の提供。酸または塩基と、有機溶剤とを含む、洗浄剤組成物と、シリコーン化合物を含む仮接着剤と含み、酸の式(a)で表される値が0~10であり、前記塩基の式(b)で表される値が-5~0である、キット; 式(a) ClogP - pKa 式(b) ClogP - pKb 式(a)および(b)において、ClogPは、1-オクタノール中および水中の平衡濃度の比を表す1-オクタノール/水分配係数であるPを、底10に対する対数logPの形態で表した値を、pKaは酸解離定数を、pKbは塩基解離定数をそれぞれ示している。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)