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1. (WO2018020565) SUBSTITUTION SITE MEASURING DEVICE AND SUBSTITUTION SITE MEASURING METHOD
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Pub. No.:    WO/2018/020565    International Application No.:    PCT/JP2016/071810
Publication Date: 01.02.2018 International Filing Date: 26.07.2016
IPC:
G01N 23/225 (2006.01)
Applicants: HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP)
Inventors: ANAN Yoshihiro; (JP).
KOGUCHI Masanari; (JP)
Agent: SEIRYO I.P.C.; 24-2, Hatchobori 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040032 (JP)
Priority Data:
Title (EN) SUBSTITUTION SITE MEASURING DEVICE AND SUBSTITUTION SITE MEASURING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE MESURE DE SITE DE SUBSTITUTION ET PROCÉDÉ DE MESURE DE SITE DE SUBSTITUTION
(JA) 置換サイト計測装置および置換サイト計測方法
Abstract: front page image
(EN)This substitution site measuring device using an electron beam analyzes, with high precision, the structure of a substitution site in a micrometer- to nanometer-order region, by reducing or vanishing the X-ray intensity of diffraction X-rays generated in a sample. The substitution site measuring device measures a substitution site in a crystal by detecting, by means of an X-ray detector, X-rays generated from a sample upon irradiation of the sample with an electron beam. The substitution site measuring device is provided with: an input unit to which a crystal structure of a sample, energy or wavelengths of X-rays to be detected, an inclination angle of the sample, and positional information about the sample and the X-ray detector are inputted; a diffraction X-ray incidence calculating means for calculating incidence of diffraction X-rays on the X-ray detector on the basis of parameters inputted to the input unit; a measurement condition setting means for setting a measurement condition according to the incidence of diffraction X-rays on the X-ray detector calculated by the diffraction X-ray incidence calculating means such that the diffraction X-rays are not incident on the X-ray detector; and an electron beam inclination/X-ray detection control unit that detects the X-rays in synchronization with the inclination of an electron beam.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de mesure de site de substitution utilisant un faisceau d'électrons qui analyse, avec une précision élevée, la structure d'un site de substitution dans une région de l'ordre du micromètre au nanomètre, par réduction ou suppression de l'intensité de rayons X de rayons X de diffraction générés dans un échantillon. Le dispositif de mesure de site de substitution mesure un site de substitution dans un cristal par détection, au moyen d'un détecteur de rayons X, de rayons X générés depuis un échantillon après l'irradiation de l'échantillon avec un faisceau d'électrons. Le dispositif de mesure de site de substitution est pourvu de : une unité d'entrée à laquelle une structure cristalline d'un échantillon, une énergie ou des longueurs d'onde de rayons X devant être détectés, un angle d'inclinaison de l'échantillon, et des informations de position concernant l'échantillon et le détecteur de rayons X sont entrés ; un moyen de calcul d'incidence de rayons X de diffraction pour calculer l'incidence de rayons X de diffraction sur le détecteur de rayons X sur la base de paramètres entrés dans l'unité d'entrée; un moyen de définition de condition de mesure pour définir une condition de mesure en fonction de l'incidence de rayons X de diffraction sur le détecteur de rayons X calculée par le moyen de calcul d'incidence de rayons X de diffraction de sorte que les rayons X de diffraction ne soient pas incidents sur le détecteur de rayons X ; et une unité de commande de détection d'inclinaison de faisceau d'électrons/de rayons X qui détecte les rayons X en synchronisation avec l'inclinaison d'un faisceau d'électrons.
(JA)電子線を用いた置換サイト計測装置において、試料内で生じる回折X線のX線強度を低減または無くし、マイクロメートルからナノメートルオーダー領域の置換サイト構造解析を高精度に行う。電子線を試料に照射し、試料から発生するX線をX線検出器で検出することにより結晶の置換サイトを計測する置換サイト計測装置であって、試料の結晶構造、検出するX線のエネルギーまたはX線の波長、試料の傾斜角度、試料とX線検出器との位置情報を入力する入力部と、前記入力部に入力した各パラメータから、回折X線の前記X線検出器への入射を算出する回折X線入射算出手段と、前記回折X線入射算出手段が算出した回折X線の前記X線検出器への入射に応じて、回折X線が前記X線検出器へ入射しないように測定条件を設定する測定条件設定手段と、電子線の傾斜と同期してX線を検出する電子線傾斜/X線検出制御部と、を備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)