EP2017065185 IMPROVED GUIDANCE OF IONS FROM A PLASMA TO A SUBSTRATE TO BE COATED

1. (WO2018019482) IMPROVED GUIDANCE OF IONS FROM A PLASMA TO A SUBSTRATE TO BE COATED

National Phase

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Pub. No.:		WO/2018/019482		International Application No.:		PCT/EP2017/065185
Publication Date:		01.02.2018		International Filing Date:		21.06.2017

IPC:

C23C 14/50 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)

Applicants:

ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20 70442 Stuttgart (DE)

Inventors:

GUENTHER, Marcus; (DE).
SCHMIDT, Oliver; (DE).
DOBRYGIN, Wladislaw; (DE)

Priority Data:

10 2016 213 951.7

28.07.2016

Title

(DE) VERBESSERTE LENKUNG VON IONEN AUS EINEM PLASMA AUF EIN ZU BESCHICHTENDES SUBSTRAT
(EN) IMPROVED GUIDANCE OF IONS FROM A PLASMA TO A SUBSTRATE TO BE COATED
(FR) PROCÉDÉ AMÉLIORÉ DE GUIDAGE D’IONS PROVENANT D'UN PLASMA SUR UN SUBSTRAT À MUNIR D’UN REVÊTEMENT

Abstract:

(DE)Substrathalter (1), umfassend einen ersten Kontakt (3) für die Zuführung eines Potentials U_s zum Substrat (2), wobei ein Ladebereich (12) auf der Oberfläche (11) des Substrathalters (1) als durch von der lonenquelle (104) einer Beschichtungsanlage (100) eintreffende Ionen (101, 102) aufladbar ausgebildet ist (13), und/oder wobei ein zweiter Kontakt (4) vorgesehen ist, über den ein Elektrodenbereich (14) auf der Oberfläche (11) des Substrathalters (1) mit einem vom Potential U_s verschiedenen, frei wählbaren Potential U_H beaufschlagbar ist. Beschichtungsanlage (100) mit mindestens einer lonenquelle (104) und einer ersten Spannungsquelle (106), die mit dem zu beschichtenden Substrat (2) verbindbar ist, so dass Gasionen (101), und/oder Ionen (102) eines Beschichtungsmaterials (103), aus der lonenquelle (104) durch ein von der ersten Spannungsquelle (106) am Substrat (2) angelegtes elektrisches Potential U_s in Richtung auf das Substrat (2) beschleunigt werden können, wobei mindestens eine Nebenfläche (11, 105), auf die sich das Substrat (2) verfehlende Ionen (101, 102) zubewegen, als durch eintreffende Ionen (101, 102) aufladbar ausgebildet ist (13, 113), und/oder wobei mindestens eine zweite Spannungsquelle (107) vorgesehen ist, die mit der Nebenfläche (11, 105) verbindbar ist, so dass diese Nebenfläche (11, 105) mit einem vom Potential U_s verschiedenen, frei wählbaren Potential U_H beaufschlagbar ist. Verfahren zum Betreiben und Computerprogrammprodukt.
(EN)The invention relates to a substrate holder (1) comprising a first contact (3) for the supply of a potential U_s to the substrate (2), a charging region (12) on the surface (11) of the substrate holder (1) being designed such that it can be charged (13) with ions (101, 102) from the ion source (104) of a coating facility (100), and/or a second contact (4) is provided by means of which a freely selectable potential U_H different from the potential U_s can be applied to an electrode region (14) on the surface (11) of the substrate holder (1). The invention also relates to a coating facility (100) comprising at least one ion source (104) and a first voltage source (106) that can be connected to the substrate to be coated (2) such that gas ions (101) and/or ions (102) of a coating material (103) can be accelerated in the direction of the substrate (2) from the ion source (104) by means of an electric potential U_s applied to the substrate (2) from the first voltage source (106), at least one secondary surface (11, 105), towards which ions (101, 102) missing the substrate (2) move, being designed (13, 113) such that it can be charged with arriving ions (101, 102), and/or at least one second voltage source (107) being provided, which can be connected to the secondary surface (11, 105) such that a freely selectable potential U_s different from the potential U_s can be applied to said secondary surface (11, 105). The invention further relates to an operating method and to a computer program product.
(FR)L’invention concerne un support de substrat (1) comprenant un premier contact (3) servant à l’amenée d’un potentiel U_s vers le substrat (2), une zone de charge (12) étant réalisée (13) sur la surface (11) du support de substrat (1) pour pouvoir être chargée par des ions (101, 102) provenant de la source d’ions (104) d’une installation de revêtement (100) et/ou le support comprenant un second contact (4) par lequel une partie électrode (14) peut être soumise sur la surface (11) du support de substrat (1) à un potentiel U_H librement sélectionnable différent du potentiel U_s. L’invention concerne également une installation de revêtement (100) comportant une source d’ions (104) et au moins une première source de tension (106) qui peut être reliée au substrat (2) à revêtir, de sorte que les ions gazeux (101) et/ou les ions (102) d’un matériau de revêtement (103) peuvent être accélérés en direction du substrat (2) à partir de la source d’ions (104) par un potentiel électrique U_sappliqué au substrat (2) par la première source de tension (106). Au moins une surface secondaire (11, 105) sur laquelle les ions (101, 102) manquant le substrat (2) se déplacent est réalisée (13, 113) pour pouvoir être chargée par les ions entrants (101, 102) et/ou le support comprend une seconde source de tension (107) qui peut être reliée à la surface secondaire (11, 105), de sorte que cette surface secondaire (11, 105) peut être soumise à un potentiel U_Hlibrement sélectionnable différent du potentiel U_s. L’invention concerne par ailleurs un procédé de fonctionnement et un produit-programme informatique.

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Publication Language:	German (DE)
Filing Language:	German (DE)

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