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1. (WO2018019045) MASK, PREPARATION METHOD THEREFOR, AND MASK FRAME ASSEMBLY
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Pub. No.:    WO/2018/019045    International Application No.:    PCT/CN2017/088040
Publication Date: 01.02.2018 International Filing Date: 13.06.2017
IPC:
C23C 14/04 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01), H01L 51/56 (2006.01)
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
ORDOS YUANSHENG OPTOELECTRONICS CO., LTD. [CN/CN]; Ordos Equipment Manufacturing Base Dongsheng District, Ordos Inner Mongolia 017020 (CN)
Inventors: LIN, Zhiming; (CN).
WANG, Zhen; (CN)
Agent: CHINA SCIENCE PATENT & TRADEMARK AGENT LTD.; Suite 4-1105, No. 87, West 3rd Ring North Rd., Haidian District Beijing 100089 (CN)
Priority Data:
201610617389.3 29.07.2016 CN
Title (EN) MASK, PREPARATION METHOD THEREFOR, AND MASK FRAME ASSEMBLY
(FR) MASQUE, SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET ENSEMBLE DE CADRE DE MASQUE
(ZH) 掩膜板及其制作方法、掩膜组件
Abstract: front page image
(EN)A mask, a preparation method therefor, and a mask frame assembly. The mask comprises a vapor deposition effective region (110) and an edge region located between an edge extending along a stretching direction in the vapor deposition effective region (110) and an edge of the mask extending along a stretching direction. A bend relief structure (120) is disposed at the edge region. The bend relief structure (120) is used for relieving the edge bending of the vapor deposition effective region (110) when the mask is stretched along the extension direction of the edge.
(FR)La présente invention concerne un masque, son procédé de préparation et un ensemble de cadre de masque. Le masque comprend une région efficace de dépôt en phase vapeur (110) et une région de bord située entre un bord s’étendant le long d’une direction d’étirage dans la région efficace de dépôt en phase vapeur (110) et un bord du masque s’étendant le long d’une direction d’étirage. Une structure de détente de courbure (120) est disposée au niveau de la région de bord. La structure de détente de courbure (120) est utilisée pour détendre la courbure de bord de la région efficace de dépôt en phase vapeur (110) lorsque le masque est étiré le long de la direction d’extension du bord.
(ZH)一种掩膜板及其制作方法、掩膜组件。该掩膜板包括蒸镀有效区(110)和位于所述蒸镀有效区(110)的沿拉伸方向延伸的边沿与所述掩膜板的沿拉伸方向延伸的边沿之间的边缘区域,所述边缘区域上设置有弯曲缓解结构(120),所述弯曲缓解结构(120)用于当所述掩膜板按照所述边沿的延伸方向被拉伸时缓解所述蒸镀有效区(110)的边缘卷曲。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)