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1. (WO2018016587) ELECTROSTATIC CHUCK
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Pub. No.:    WO/2018/016587    International Application No.:    PCT/JP2017/026296
Publication Date: 25.01.2018 International Filing Date: 20.07.2017
IPC:
H01L 21/683 (2006.01), H02N 13/00 (2006.01), H05B 3/20 (2006.01)
Applicants: TOTO LTD. [JP/JP]; 1-1, Nakashima 2-chome, Kokurakita-ku, Kitakyushu-shi, Fukuoka 8028601 (JP)
Inventors: YAMAGUCHI, Kosuke; (JP).
SASAKI, Hitoshi; (JP).
MAEHATA, Kengo; (JP).
KONDO, Shumpei; (JP).
YOSHII, Yuichi; (JP)
Agent: HYUGAJI, Masahiko; (JP).
KOZAKI, Junichi; (JP).
ICHIKAWA, Hiroshi; (JP)
Priority Data:
2016-142663 20.07.2016 JP
2017-051449 16.03.2017 JP
2017-140590 20.07.2017 JP
Title (EN) ELECTROSTATIC CHUCK
(FR) MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE
(JA) 静電チャック
Abstract: front page image
(EN)An electrostatic chuck equipped with a ceramic dielectric substrate having a first principal surface on which an object to be treated is placed, and a second principal surface on the side thereof opposite the first principal surface, and further equipped with a base plate that supports the ceramic dielectric substrate and is provided in a location separated from the ceramic dielectric substrate, and a heater plate provided between the ceramic dielectric substrate and the base plate, the electrostatic chuck being characterized in that: the heater plate has a first support plate that contains a metal, a heater element which generates heat using the flow of an electric current and is provided so as to overlap the first support plate, and a first resin layer provided between the first support plate and the heater element; the heater element has a first surface facing the first resin layer and a second surface facing the side thereof opposite the first surface; and the width of the first surface is different from the width of the second surface.
(FR)Un mandrin électrostatique équipé d'un substrat diélectrique en céramique ayant une première surface principale sur laquelle un objet à traiter est placé, et une seconde surface principale sur le côté de celui-ci opposé à la première surface principale, et équipé en outre d'une plaque de base qui supporte le substrat diélectrique en céramique et qui est disposée à un emplacement séparé du substrat diélectrique en céramique, et une plaque chauffante disposée entre le substrat diélectrique en céramique et la plaque de base, le mandrin électrostatique étant caractérisé en ce que: la plaque chauffante comporte une première plaque de support qui contient un métal, un élément chauffant qui génère de la chaleur à l'aide du flux d'un courant électrique et est disposé de manière à chevaucher la première plaque de support, et une première couche de résine disposée entre la première plaque de support et l'élément chauffant; l'élément chauffant a une première surface faisant face à la première couche de résine et une seconde surface tournée vers le côté de celle-ci à l'opposé de la première surface; et la largeur de la première surface est différente de la largeur de la seconde surface.
(JA)処理対象物を載置する第1主面と、第1主面とは反対側の第2主面と、を有するセラミック誘電体基板と、セラミック誘電体基板とは離れた位置に設けられセラミック誘電体基板を支持するベースプレートと、セラミック誘電体基板とベースプレートとの間に設けられたヒータプレートと、を備え、ヒータプレートは、金属を含む第1の支持板と、第1の支持板と重ねて設けられ電流が流れることにより発熱するヒータエレメントと、第1の支持板とヒータエレメントとの間に設けられた第1の樹脂層と、を有し、ヒータエレメントは、第1の樹脂層と対向する第1面と、第1面と反対側を向く第2面と、を有し、第1面の幅は、第2面の幅と異なることを特徴とする静電チャックである。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)