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1. (WO2018016433) ELECTRON EMISSION ELEMENT, ELECTRIFICATION APPARATUS, AND IMAGE FORMING APPARATUS
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Pub. No.:    WO/2018/016433    International Application No.:    PCT/JP2017/025690
Publication Date: 25.01.2018 International Filing Date: 14.07.2017
IPC:
H01J 1/312 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522 (JP)
Inventors: ADACHI, Katsumi; (--).
HIRAKAWA, Hiroyuki; (--).
IWAMATSU, Tadashi; (--)
Agent: ARC PATENT ATTORNEYS' OFFICE; 1-2, Sonezaki 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300057 (JP)
Priority Data:
2016-143060 21.07.2016 JP
Title (EN) ELECTRON EMISSION ELEMENT, ELECTRIFICATION APPARATUS, AND IMAGE FORMING APPARATUS
(FR) ÉLÉMENT D'ÉMISSION D'ÉLECTRONS, APPAREIL D'ÉLECTRIFICATION ET APPAREIL DE FORMATION D'IMAGES
(JA) 電子放出素子、帯電装置、および画像形成装置
Abstract: front page image
(EN)An electron emission element (20) is provided with: a first electrode (30a) and a second electrode (40) that are arranged oppositely to each other; an intermediate layer (50) that is provided between the first electrode (30a) and the second electrode (40); and an insulating layer (60) that is formed on a substrate (30) so as to have a thickness d1. The level difference between the insulating layer (60) and the first electrode (30a) is smaller than the thickness d1 of the insulating layer (60).
(FR)Un élément d'émission d'électrons (20) est pourvu : d'une première électrode (30a) et d'une seconde électrode (40) disposées de manière opposée l'une de l'autre; d'une couche intermédiaire (50) qui est disposée entre la première électrode (30a) et la seconde électrode (40); et une couche isolante (60) qui est formée sur un substrat (30) de manière à présenter une épaisseur d1. La différence de niveau entre la couche isolante (60) et la première électrode (30a) est inférieure à l'épaisseur d1 de la couche isolante (60).
(JA)電子放出素子(20)は、互いに対向して配置された第1電極(30a)および第2電極(40)と、第1電極(30a)と第2電極(40)との間に設けられた中間層(50)と、基板(30)の上に、厚さd1として形成された絶縁層(60)とを備えている。絶縁層(60)と第1電極(30a)との段差は、絶縁層(60)の厚さd1より小さい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)