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1. (WO2018016286) ELECTRON SOURCE AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
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Pub. No.:    WO/2018/016286    International Application No.:    PCT/JP2017/023933
Publication Date: 25.01.2018 International Filing Date: 29.06.2017
IPC:
H01J 1/148 (2006.01), H01J 9/04 (2006.01), H01J 37/06 (2006.01)
Applicants: DENKA COMPANY LIMITED [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038338 (JP)
Inventors: MORISHITA, Toshiyuki; (JP).
CHATANI, Hiromitsu; (JP).
HIROKAWA, Shimpei; (JP).
IBAYASHI, Toshiyuki; (JP).
SUGIMOTO, Isao; (JP)
Agent: SK INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; Hiroo-Building 4th Floor, 3-12-40, Hiroo, Shibuya-ku, Tokyo 1500012 (JP).
OKUNO Akihiko; (JP).
ITO Hiroyuki; (JP)
Priority Data:
2016-141785 19.07.2016 JP
2017-063016 28.03.2017 JP
Title (EN) ELECTRON SOURCE AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) SOURCE D'ÉLECTRONS ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 電子源およびその製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is an electron source capable of suppressing the exhaustion of an electron-emitting material. According to the present invention, the electron source has an electron-emitting material and an electron-emission limiting material covering the side surface of the electron-emitting material. The electron source is characterized in that the work function of the electron-emission limiting material is higher than the work function of the electron-emitting material, and that the heat radiation rate of the electron-emission limiting material is lower than the heat radiation rate of the electron-emitting material.
(FR)L'invention concerne une source d'électrons capable de supprimer l'épuisement d'un matériau émetteur d'électrons. Selon la présente invention, la source d'électrons comporte un matériau émetteur d'électrons et un matériau limitant l'émission d'électrons recouvrant la surface latérale du matériau émetteur d'électrons. La source d'électrons est caractérisée en ce que la fonction de travail du matériau de limitation d'émission d'électrons est supérieure à la fonction de travail du matériau émetteur d'électrons, et en ce que le taux de rayonnement thermique du matériau de limitation d'émission d'électrons est inférieur au taux de rayonnement thermique du matériau émetteur d'électrons.
(JA)電子放出材料の消耗を抑制することができる、電子源を提供する。 本発明によれば、電子放出材料と、前記電子放出材料の側面を被覆する電子放出制限材料とを有する電子源であって、前記電子放出制限材料の仕事関数が前記電子放出材料の仕事関数よりも高く、前記電子放出制限材料の熱輻射率が電子放出材料の熱輻射率よりも低いことを特徴とする電子源が提供される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)