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1. (WO2018013707) METHOD AND SYSTEM FOR MEASURING LOCAL ULTRAVIOLET EXPOSURE
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Pub. No.:    WO/2018/013707    International Application No.:    PCT/US2017/041742
Publication Date: 18.01.2018 International Filing Date: 12.07.2017
IPC:
A61N 5/00 (2006.01), G01J 1/06 (2006.01), G01J 1/42 (2006.01), H01L 31/0232 (2014.01)
Applicants: POUTIATINE, Andrew [US/US]; (US)
Inventors: POUTIATINE, Andrew; (US)
Agent: MURPHEY, Corey, Lynn; (US)
Priority Data:
62/361,414 12.07.2016 US
62/380,455 28.08.2016 US
62/404,131 04.10.2016 US
62/434,184 14.12.2016 US
Title (EN) METHOD AND SYSTEM FOR MEASURING LOCAL ULTRAVIOLET EXPOSURE
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE MESURE D’EXPOSITION LOCALE AUX ULTRAVIOLETS
Abstract: front page image
(EN)One variation of a method for measuring ambient ultraviolet light radiation including: calculating a target direct orientation of a light exposure device based on a location, a current date and time, and a direct solar position model; calculating a target diffuse orientation of the light exposure device based on the location, the current date and time, and a diffuse solar position model; in response to detecting alignment between orientation of the light exposure device and the target direct orientation, recording a direct ultraviolet value; in response to detecting alignment between orientation of the light exposure device and the target diffuse orientation, recording a diffuse ultraviolet value; in response to detecting alignment between orientation of the light exposure device and a target global orientation, recording a global ultraviolet value; and calculating an ultraviolet index based on the global ultraviolet value, the direct ultraviolet value, and the diffuse ultraviolet value.
(FR)La présente invention concerne une variante d’un procédé de mesure de rayonnement de lumière ultraviolette ambiante qui comprend : le calcul d’une orientation directe cible d’un dispositif d’exposition à la lumière sur la base d’un emplacement, d’une date et d’une heure actuelles, et d’un modèle de position solaire directe ; calcul d’une orientation diffuse cible du dispositif d’exposition à la lumière sur la base de l’emplacement, de la date et de l’heure actuelles, et d’un modèle de position solaire diffus ; en réponse à la détection de l’alignement entre l’orientation du dispositif d’exposition à la lumière et l’orientation directe cible, l’enregistrement d’une valeur d’ultraviolet direct ; en réponse à la détection de l’alignement entre l’orientation du dispositif d’exposition à la lumière et l’orientation de diffusion cible, l’enregistrement d’une valeur d’ultraviolet diffus ; en réponse à la détection de l’alignement entre l’orientation du dispositif d’exposition à la lumière et une orientation globale cible, l’enregistrement d’une valeur d’ultraviolet global ; et le calcul d’un indice d’ultraviolet sur la base de la valeur d’ultraviolet global, de la valeur d’ultraviolet direct et de la valeur d’ultraviolet diffus.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)